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微电子从40年代末的第一只晶体管(Ge合金管 )问世,50年代中期出现了硅平面工艺,此工艺 不仅成为硅晶体管的基本制造工艺,也使得将多 个分立晶体管制造在同在一硅片上的集成电路成 为可能,随着制造工艺水平的不断成熟,使微电 子从单只晶体管发展到今天的ULSI 回顾发展历史,微电子技术的发展不外乎包括 两个方面:制造工艺和电路设计,而这两个又是 相互相成,互相促进,共同发展
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第一章半导体产业介绍 一、概述 微电子从40年代末的第一只晶体管(Ge合金管 )问世,50年代中期出现了硅平面工艺,此工艺 不仅成为硅晶体管的基本制造工艺,也使得将多 个分立晶体管制造在同在一硅片上的集成电路成 为可能,随着制造工艺水平的不断成熟,使微电 子从单只晶体管发展到今天的ULSI 回顾发展历史,微电子技术的发展不外乎包括 两个方面:制造工艺和电路设计,而这两个又是 相互相成,互相促进,共同发展
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§8.1 正弦波振荡电路 §8.2 电压比较器 §8.3 非正弦波发生电路 §8.4 信号的转换
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电力系统是由一系列具有分布参数的线路、母线、 变压器和发电机等组成的,所以电力系统过电压的形成 与分布参数电路中的过渡过程有关。分布参数中的过渡 过程就是电磁波的传播过程,简称波过程。本章就是介 绍这一过程的规律的
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一、电子技术的发展 二、模拟信号与模拟电路 三、电子信息系统的组成 四、模拟电子技术基础课的特点 五、如何学习这门课程 六、课程的目的 七、考查方法
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1. 引言 2. 腐蚀的定义 3. 腐蚀与防护研究的意义 腐蚀与防护研究的意义 4. 腐蚀科学的发展 腐蚀科学的发展 5. 腐蚀的分类 6. 腐蚀防护的基本途径 腐蚀防护的基本途径 7. 腐蚀科学及防护技术的主要内容 腐蚀科学及防护技术的主要内容 2.1 电化学腐蚀与腐蚀电池 2.2 电化学腐蚀热力学
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1. EDA技术的发展历史 2. EDA技术实现目标 3. 硬件描述语言VHDL概述 4. EDA技术与传统电子设计方法的比较 5. EDA技术的发展趋势
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一、定义 磁敏传感器是基于磁电转换原理的传感器。1856年发现磁阻效应, 1879年发现霍尔效应60年代初开始应用。 二、分类 体型:霍尔传感器,磁敏电阻 结型:磁敏二极管,磁敏晶体管
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为了实现微尺度辊缝形状调节,提出了辊型电磁调控技术,并自行设计制造了φ270 mm×300 mm辊型电磁调控实验平台.通过电磁-热-力耦合数理建模,并对比分析相同工况实验和仿真结果,发现两者结果十分接近,模型可靠.在此基础上,分析了不同等效电流密度和频率下轧辊凸度及轧辊凸度增长速率随加热时间的变化规律,给出了等效电流密度、频率、加热时间对辊型曲线的影响,并从避免电磁棒局部温度过高及便于轧辊凸度调节出发,给出了合理的工艺参数
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PCR是 Polymerase chain reaction的缩写,中文译作聚合酶链式反应。其特点是可以 在几小时内方便、快捷地将微量DNA(含由微量RNA反转录成的cDNA)扩增达10 倍,得到ug级的DNA!该技术发明于八十年代中期,到了八十年代末,由于引用了耐热 DNA聚合酶,使这一技术得以蓬勃发展,成为分子生物学中应用最为广泛的技术之一,发 挥着日益重要的作用 由于其方便快捷,在中医药实验研究和临床检测中应用十分广泛
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