设计受弯构件时,一般应满足下列两方面要求 (1)由于弯矩M的作用,构件可能沿某个正截面(与梁的纵轴线或板的中面正交时的面)发生破坏,故需进行正截面强度计算。 (2)由于弯矩M和剪力Q的共同作用,构件可能沿剪压区段内的某个斜截面发生破坏,故需进行斜截面强度计算

一、选择题(每题3分。请将答案的序号填入划线内) 1.正方体仅受两个力偶作用,该两力偶矩矢等值、反向,即M1=M2,但不共线,则正方 体 ①平衡; ②不平衡; ③因条件不足,难以判断是否平衡

NanoView-I 型扫描隧道显微镜 研制： 上海交通大学物理实验中心 上海纳科技术发展有限公司 主要技术参数： 扫描范围：5m×5 m

ration and Use: A Seminar via Interne Analysis of two alternative harvesting systems hosted by the World Bank, July 2000. The in peninsular Malaysia: sensitive analysis of conferenceWebsiteiswww.worldbank.org/ Alexander, m. rowell, T.A. 1999. Recent anagement Inc., Washington, DC. developments in management planning and Brown, S, Sathaye, J, Cannel, M.& Kauppi, P. monitoring on protected sites in the United 1996. Management of forests for mitigation of

pH of a buffer and buffer capacity Example: For a buffer solution consisting of 0. 1 M acetic acid and o1M sodium acetate the ph of the solution is 4.75 HAc= i If an amount of hydrochloric acid equivalent to 10% of the acetate present, is added to the buffer, what is the new pH of the solution?

Some van der waals constants m3/mole2) (m/mole)

1 作直线运动的物体，其运动方程为: ，式中x的单位为m，t 的单位 为s，速度单位为m·s

1设系以速率v=0.60c相对于S系沿xx轴运动,且在t=t=0时,x=x=0. (1)一事件,在S系中发生于t=2×10-7s,x=50m处,则该事件在S系中发生于何时刻? (2)若另一事件发生于系中t=3×10-7s,x=10m处,在系中测得这两个事件的时间间隔为多少?

1 图示一斜面，倾角为 ，底边AB长 为l =2.1m，质量为m的物体从斜面顶端由静 止开始向下滑动，斜面的摩擦因数为μ=0.14. 试问：当 为何值时，物体在斜面上下滑的 时间最短？其数值为多少？

一、理想气体的微观模型 (1)分子可视为质点;线度d≈10-10m间距r≈10m,d<