§1-1 运动副及其分类 §1-2 平面机构运动简图 §1-3 平面机构的自由度 §1-4 速度瞬心及其在机构速度分析上的应用

6.1 概述(Brief introduction) 6.2 吸光光度法 6.3 比色法和吸光光度法和及其仪器 6.4 光度分析法设计 6.5 光度分析法的误差

1. 了解分析化学的任务 2. 了解分析方法分类 3. 了解分析化学发展简史

5.1 概述(Brief introduction) 5.2 沉淀溶解度及其影响因素 5.3 沉淀的类型和形成 5.4 影响沉淀纯净的因素(自学) 5.5 沉淀条件的选择 5.6 有机沉淀剂（自学） 5.7 重量分析结果的计算 5.8 沉淀滴定法

7.1 有关误差的一些基本概念 7.2 随机误差的分布 7.3 有限数据的统计处理 7.4 测定方法的选择与测定准确度的提高 7.5 有效数字

1.设谐振子基态变分函数为v=Nexp(-ax2),试用归一化法求系 数N,并用变分法计算基态平均能量和参数c

基本概念 1、电解质溶液中正、负离子的质量摩尔浓度分别为b和b,正、负离子的活度因子分别为yb+和 因此正、负离子的活度分别为ab+= 和ab-= ,电解质和

本章在分析弯曲变形过程及弯曲件质量影响因素的基 础上，介绍弯曲工艺计算、工艺方案制定和弯曲模设计。 涉及弯曲变形过程分析、弯曲半径及最小弯曲半径影响因 素、弯曲卸载后的回弹及影响因素、减少回弹的措施、坯 料尺寸计算、工艺性分析与工艺方案确定、弯曲模典型结 构、弯曲模工作零件设计等

本章为本课程的非重点章,也可以说是本课程最不重要的一章,在最近三年考试中所占分值数 小,除2002年曾经考过1道单项选择题外(分值1分),在2003年和2004年考试中均未涉 及本章内容。因此,考生对本章作一般了解即可,不必花费太多精力

8.1分组密码概述 定义 8.1一个分组密码是一种映 10 9 射:F2F2→F 记为E(X,K)或F(X),X∈F2,K∈F2,F2 称为明文空间,F2称为密文空间, 为密钥空间