一、平面曲线的弧长 平面曲线弧长的概念设A、B是曲线弧上的两当个端点,在弧上插入分点并依次连接相邻分点得一内接折线,当分点的数目无限增加且每个小弧段都缩向一点时

2.1 .1 放大电路的工作原理和图解分析 2.1.2图解法与动态工作分析

6.1 概述(Brief introduction) 6.2 吸光光度法 6.3 比色法和吸光光度法和及其仪器 6.4 光度分析法设计 6.5 光度分析法的误差

1. 了解分析化学的任务 2. 了解分析方法分类 3. 了解分析化学发展简史

5.1 概述(Brief introduction) 5.2 沉淀溶解度及其影响因素 5.3 沉淀的类型和形成 5.4 影响沉淀纯净的因素(自学) 5.5 沉淀条件的选择 5.6 有机沉淀剂（自学） 5.7 重量分析结果的计算 5.8 沉淀滴定法

7.1 有关误差的一些基本概念 7.2 随机误差的分布 7.3 有限数据的统计处理 7.4 测定方法的选择与测定准确度的提高 7.5 有效数字

第一章 绪论 第二章 单轴液晶连续体弹性形变理论 第三章 弹性形变理论的应用 第四章 丝状和螺旋状液晶中的缺陷… 第五章 丝状与螺旋状液晶的流体动力学方程 第六章 丝状和螺旋状液晶电磁流体动力学 第七章 丝状和螺旋状液晶的流动 第八章 丝状和螺旋状液晶中的不稳定性 第九章 丝状液晶分子场理论 第十章 分子场理论的应用 第十一章 丝状液晶和螺旋状液晶的光散射 第十二章 层状液晶和盘形分子液晶

J. Fourier1807年提出周期函数可表为三角级数的和.随后,关于 FourierFourier级数以及积 分的理论逐步建立. Fourier变换得到了广泛的应用。 在第一节中将介绍L1与L2 Fourier中变换与逆变换及其性质。第二节是关于 Heisenberg不 确定性原理,并证明函数在时域与频域内不可能同时有紧支集。第三节将介绍时不变系统并 引入滤波的概念

本章在分析弯曲变形过程及弯曲件质量影响因素的基 础上，介绍弯曲工艺计算、工艺方案制定和弯曲模设计。 涉及弯曲变形过程分析、弯曲半径及最小弯曲半径影响因 素、弯曲卸载后的回弹及影响因素、减少回弹的措施、坯 料尺寸计算、工艺性分析与工艺方案确定、弯曲模典型结 构、弯曲模工作零件设计等

A general lagged variable model2:滞后时期数 1)如=0,称为分布滞后模型 (1)又如有限,称为有限分布滞后模型 (2)又如无限,称为无限分布滞后模型 2)如s=0,称为自回归模型