1问答题 1.1什么是寻址方式?51单片机有几种寻址方式?对8031内部RAM的128 255字节地址的空间寻址要注意什么? 1.251单片机无条件转移指令有几种?如何选用?

一、电荷(electric charge)的基本性质 1电荷有正负之分; 2电荷是量子化(quantization)的;所有带电体的电量都是电子电荷e=1.602×10-19C的整数倍:q=ne(n=0,±1,±2

一、热力学(thermodynamics)的研究对象与研究方法 物态(state of matter):物质存在的物理状态 物质主要存在三种基本物理状态:固态、液态 和气态 热学是研究一切物态的热现象的学科,我们这里主 要研究气态,但有时也会牵涉到固态和液态。 从宏观上看,热学研究物体的宏观热现象:与温度有 关的物态的物理性质的变化。由观察和实验来总结热 现象的规律,得出热现象的宏观理论,这部分称为热 力学。 热力学利用宏观上可观测的物理量,如:,V,T 来研究热现象的规律

这一阶段学习的主要内容有: 1.数学工具矢量分析 2.定义了位置矢量位置矢量的一阶导数为质点运动的速度位置矢量F的二阶导数为质点运动的加速度a在二维极坐标下的圆周运动,有:

6.2具有整数解的线性规划问题 对纯整数规划 max z=cx (IP): s.t. Ax=bx,≥0,整数,j=1,2,…n

第六章涡轮增压器与发动机的匹配 第一节废气涡轮增压器与发动机匹配的目的与特点 1、目的 充分利用废气能量,在各种工况下高效供给发动机所需的空气量。 2、特点 增压器与发动机之间只有气动连接和能量的交换,没有机械连接; 发动机的工况与增压器的工况通过气动联系一一对应 增压器要高效满足发动机的供气量

一、填空(每空3分,共21分) 1.在任何温度下均能服从理想气体状态方程的气体称为()。 2.分体积是指某气体单独存在,且与混合气体具有相同()和()时所占有的体积

概述本章将介绍基本芯片生产工艺的概况, 主要阐述4中最基本的平面制造工艺,分别是: 薄膜制备工艺掺杂工艺光刻工艺热处理工艺 薄膜制备是在晶体表面形成薄膜的加工工艺。 图4.4是MOS晶体管的剖面图,可以看出上面有 钝化层(Si3N4、Al2O3)、金属膜(AI)、氧化层(SiO2) 制备这些薄膜的材料有:半导体材料(Si、 GaAs等),金属材料(Au、A等),无机绝缘 材料(SiO2、Si3N4、Al2O3等),半绝缘材料 (多晶硅、非晶硅等)

二叉树的建立 建立二叉树的过程是一个“插入”过程,下面我们用 个例子来讲解这一过程。 我们想建立这样一棵二叉树,树中的每一个结点有 个整数数据名为data,有两个指针:左指针L,右指 针R,分别指向这个结点的左子树和右子树,显然可 以用如下名为TREE的结构来描述这种结点:

递归及其实现 递归算法在可计算性理论中占有重要地位,它是算法 设计的有力工具,对于拓展编程思路非常有用。就递 归算法而言并不涉及高深数学知识,只不过初学者要 建立起递归概念不十分容易。 我们先从一个最简单的例子导入