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病原物侵染过程(infection process)就是病原物与 寄主植物可侵染部位接触,并侵入寄主植物,在植 物内繁殖和扩展,然后发生致病作用,显示病害症 状的过程,也是植物个体遭受病原物侵染后的发病 过程。 ·侵染过程一般分为四个时期:接触期、侵入期、 潜育期、发病期。 第一节 接触期 contact phase 第二节 侵入期 第三节 潜育期 第四节 发病期 symptom appearance phase
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1规划模型的基本概念 规划模型的一般形式三要素 (1)决策变量,通常是该问题要求解的那些未知量,不妨用n维向量x=(1x2,xn)表示,当对x赋值后通常称为该问题的一个解 (2)目标函数,通常是该问题要优化(最大或最小)的那个目标的数学表达式,它是决策变量x的函数,可以记作f(x) (3)约束条件,由该问题对决策的限制条件给出,即x允许取值的范围x∈,称为可行域。通常
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在中途下车的人数,求: 考研真题三 (1)在发车时有n个乘客的条件下,中途有m人下车的概率; 1.设相互独立的两个随机变量X,Y具有同一分布律,且X的分布律为(2)二维随机变量(X,Y)的概率分布0数一考研题
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一、选择题(每小题2分,共70分) (1)下列选项中不属于结构化程序设计方法的是()。 A)自顶向下 B)逐步求精 C)模块化 D)可复用 (2)两个或两个以上模块之间关联的紧密程度称为()。 A)耦合度 B)内聚度 C)复杂度 D)数据传输特性
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一、连续型随机变量的基本概念 离散型随机变量并不能描述所有的随机试验,对于可在某一区间内任意取值的随机变量X, 由于它的值不是集中在有限个或可列个点上因此只有知道其取值于任一区间上的概率P{a
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一、置信区间的概念 定义:设总体分布函数F(x,0含有一个未知参数0,对给定的a(0
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第一章半导体产业介绍 一、概述 微电子从40年代末的第一只晶体管(Ge合金管 )问世,50年代中期出现了硅平面工艺,此工艺 不仅成为硅晶体管的基本制造工艺,也使得将多 个分立晶体管制造在同在一硅片上的集成电路成 为可能,随着制造工艺水平的不断成熟,使微电 子从单只晶体管发展到今天的ULSI 回顾发展历史,微电子技术的发展不外乎包括 两个方面:制造工艺和电路设计,而这两个又是 相互相成,互相促进,共同发展
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特征值 一、基本要求 1.理解矩阵的特征值、特征向量的概念并掌握其求法; 2.了解相似矩阵的概念、性质及矩阵对角化的充要条件,会化矩阵为相似对角形 二、内容提要 1.特征值与特征向量 设A为n阶方阵,a为n维非零列向量,为一个数,使得则称为A的一个特征值,a为A对应于的一个特征向量 2.特征向量的性质 (1)对应于不同特征值的特征向量是线性无关的 (2)同一特征值的特征向量a1,a2,…,am的任意非零线性组合
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第六章Unix的安全 现在,我们已经考察了各种独立的安全机制。在真正的实现中,它们是互相依赖的。例如,访问控制和授权必 须协同工作,缺了任何一方,另一方都不能有效地工作。所以,我们现在转入对操作系统提供的安全机制的考察。 Unix是我们的第一个例子,它让我们有机会在一个相当具体的层次上考察安全机制
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第二节平面力系向一点简化 1、平面力系向一点简化平面力系向0点简化,得到通过简化中心O的一个力和一个力偶
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