四、 PLC在机械控制中的应用 1、三相异步电动机正反转控制

第1章EDA技术概述 第2章EDA工具软件使用方法 第3章VHDL 第4章Veilog HDL 第5章AHDL 第6章常用EDA工具软件 第7章可编程逻辑器件 第8章EDA技术的应用

一、本章重点 1.K 线的含义及画法。 2.上下影线和实体的长度对行情判断的意义。 3.单根 K 线的 14 种形状及含义。 4.16 种 K 线组合形态的名称及意义。 5.应用 K 线应注意的 4 个问题

1.1 单片机及其发展应用 1.2 80C51单片机的内部结构 1.3 80C51单片机的存储器结构 1.4 80C51单片机的并行I/O接口 1.5 时钟与时序 1.6 复位电路

• 嵌入式软件系统概述 软件系统 嵌入式软件系统的分类 嵌入式软件系统的体系结构 嵌入式软件运行流程 • 嵌入式操作系统 概述 嵌入式操作系统的演变 嵌入式操作系统分类 嵌入式操作系统体系结构 嵌入式操作系统的组成 嵌入式实时操作系统µC/OS-II简介 • 嵌入式软件开发工具(在嵌入式系统软件开发一章中介绍) • 嵌入式Java 概述 为什么需要J2ME J2ME用来做什么 进一步了解J2ME J2ME应用

概述 7.1 D/A转换器的工作原理 7.2 典型D/A转换器芯片及其应用 7.3 A/D转换器的工作原理 7.4 典型A/D变换器芯片及其应用

静电场中的导体 静电场中的导体 电容器及电容 电介质是什么, 为什么要研究它 为什么要研究它? 学习它? 电介质在静电场中的行为特点 电介质在静电场中的行为特点 1.电介质的极化 2.电介质中的静电场 电介质中的静电场 3.电介质中的高斯定理 电介质中的高斯定理 4.电介质边界两侧的静电场 电介质边界两侧的静电场 5. 真空中的静电场能量和有电介质的区间 真空中的静电场能量和有电介质的区间 的静电场能量 电介质的应用以及最近研究成果介绍 电介质的应用以及最近研究成果介绍

1．了解 d 区元素的通性，即 d 电子化学的特征； 2．掌握钛单质、TiO2、TiCl4 的性质和制备，钛合金的应用； 3．掌握铬单质的特性与制备，三价铬与六价铬的转变； 4．了解钼和钨的简单化合物及同多酸、杂多酸的概念； 5．掌握从软锰矿制备单质锰，锰的变价及其氧化性； 6．了解铁、钴、镍氧化还原性变化规律，掌握其氧化物和氢氧化物性质； 7．掌握铜单质及其常见化合物，着重了解其歧化反应； 8．了解锌、镉、汞的单质及重要化合物。 15.1 通性 Ageneral survey 15.10 过渡元素与CO形成的化合物 Compounds of transitional metal with CO 15.2 钛 Titanium 15.3 铬 Chromium 15.4 钼和钨 Molybdnum and tungsten 15.5 锰 Manganese 15.6 铁、钴、镍 Iron, cobalt and nickel 15.7 铜 Copper 15.8 贵金属元素的不活泼性和催化性能 Non-active and catalytical properties for the noble elements 15.9 锌、镉、汞Zinc, cadmium and mercury

4.1 防火墙概念与分类 4.1.1 防火墙简介 4.1.2 包过滤防火墙 4.1.3 代理服务防火墙 4.1.4 复合防火墙 4.1.5 个人防火墙 4.2 防火墙体系结构 4.2.1. 堡垒主机 4.2.2. 非军事区 4.2.3. 屏蔽路由器 4.2.4 双宿主主机体系结构 4.2.5 主机过滤体系结构 4.2.6 子网过滤体系结构 4.2.7 组合体系结构 4.3 防火墙选型与产品简介 4.3.1 防火墙的局限性 4.3.2 开发防火墙安全策略 4.3.3 防火墙选型原则 4.3.4 典型防火墙简介

一、化学反应速率的表示方法