7-1 氧化还原平衡 7-2 氧化还原反应的速度 7-3 氧化还原滴定曲线 7-4 氧化还原中的指示剂 7-5 氧化还原滴定结果的计算 7-6 氧化还原滴定前的预处理 7-7 氧化还原滴定法应用

10-1 概述 10-2 光吸收定律 10-3 比色法和分光光度法 10-4 显色反应及其影响因素 10-5 光度测量误差和测量条件的选择 10-6 吸光光度法的应用

一、概述 机械产品设计除了应满足产品使用性能外, 还应满足制造工艺的要求,否则就有可能影响 产品生产效率和产品成本,严重时甚至无法生 产。一个结构工艺性低劣的产品,在激烈竞争 的市场经济环境中是站不住脚的。一个好的产 品设计师必须同时是一个好的工艺师

通过本章的学习，将能够： 1. 辨别出模拟和数字、有源和无源器件的不同。说明在无源器件中寄生结构的影响； 2. 对PN结进行描述，讨论其重要性，并解释其反向偏压和正向偏压的不同； 3. 描述双极技术特征和双极晶体管的功能，偏压、结构及应用； 4. 描述 CMOS 技术的基本特征，包括场效应晶体管、偏压现象以及CMOS反相器 5. 描述 MOSFET 增强型和耗尽型之间的区别； 6. 描述寄生晶体管的影响和 CMOS 闩锁效应的本质； 7. 列举一些集成电路产品，描述其各自的一些应用

10. 1 氧化还原反应和原电池 10. 2 电池反应的热力学 10. 3 影响电极电势的因素 10. 4 化学电源和电解 10. 5 图解法讨论电极电势

目录 绪论 试验设计与数据处理的概念和意义 试验设计与数据处理的发展和应用 试验设计与数据处理的基本概念 样本及其分布 总体与样本 石 样本分布函数与统计量 直方图和秩 抽样分布 参数估计与假设检验 概述 参数估计 参数的假设检验 正交试验设计的基本思想与正交表s 正交试验设计的基本思想 正交表的概念与类型 正交表的构造 正交试验设计的直观分析 单指标正交试验设计 多指标正交试验设计 混合型正交试验设计心 考虑交互作用的正交试验设计 试验设计的方差分析 概述 单因素试验的方差分析 正交试验设计方差分析的基本原理 相同水平正交试验设计的方差分析91 不同水平正交试验设计的方差分析 重复试验和重复取样的方差分析 正交试验设计的效应估计 正交试验设计中正交表的灵活运用 并列法 拟水平法 拟因素法 其它方法 SN比试验设计与产品三次设计简介 SN比及其应用 产品三次设计 一元线性回归分析 回归分析的基本概念 一元线性回归的数学模型 参数的最小二乘估计 相关系数及其显著性检验 一元线性回归的方差分析 重复试验的方差分析 利用回归方程进行预报和控制 化非线性为线性回归 回归直线的简便求法 多元线性回归分析 多元线性回归的数学模型 参数的最小二乘估计 多元线性回归的方差分析 逐步回归方法 回归正交设计 多项式回归与正交多项式

介绍视频信息处理的有关知识。主要包括数字视频信息的基本概念、视频信息的数字化、常用数字视频文件的格式、常用的视频采集处理设备、视频信息采集、加工、编辑、处理的过程、视频信息编辑工具软件Premiere的简单应用、非线性编辑系统的简单介绍

1. 解释掺杂在芯片制造过程中的目的和应用； 2. 讨论杂质扩散的原理和过程； 3. 对离子注入有一个总体认识，包括它的优缺点； 4. 讨论剂量和射程在离子注入中的重要性； 5. 列举并描述离子注入机的5各主要子系统； 6. 解释离子注入中的退火效应和沟道效应； 7. 描述离子注入的各种应用

全面应用解决方案 (一)系统总体目标 燕京啤酒股份有限公司在1991年已经实现财会电算化,而业务处理一直处于手工状态 随着企业规模的日益増长,业务量也逐渐増加,手工处理方式带来的各种弊端开始暴露出来 侵蚀着企业的收益,阻碍了先进管理方法的运用

1.1实时数字信号处理技术的发展 1.2数字信号处理器的特点 1.3德州仪器公司的DSP产品 1.4DSP芯片的选择 1.5DSP应用系统设计流程