一、离子镀方法的原理和特点 二、各种各样的离子镀方法 三、其他制备薄膜的PVD方法

一、薄膜图形化的光刻技术 二、光刻使用的等离子体刻蚀技术 三、等离子体刻蚀机制 四、 未来的纳米光刻技术

一、 等离子体的一般性质 二、等离子体辅助CVD的机理和特点 三、等离子体辅助的CVD方法

一、离子镀方法的原理和特点 二、 各种各样的离子镀方法 三、 其他制备薄膜的PVD方法

一、 CVD过程中典型的化学反应 二、 CVD过程的热力学 三、 CVD过程的动力学 四、CVD过程的数值模拟技术 五、 CVD薄膜沉积装置

一、薄膜的形核理论 二、连续薄膜的形成 三、薄膜微观结构的形成 四、非晶薄膜、薄膜织构和外延薄膜 五、薄膜的应力和附着力

一、等离子体的一般性质 二、等离子体辅助CVD的机理和特点 三、等离子体辅助的CVD方法

一、CVD过程中典型的化学反应 二、CVD过程的热力学 三、 CVD过程的动力学 四、CVD过程的数值模拟技术 五、CVD薄膜沉积装置

一、薄膜的形核理论 二、连续薄膜的形成 三、薄膜微观结构的形成 四、非晶薄膜、薄膜织构和外延薄膜 五、薄膜的应力和附着力

第六章固体中的扩散 扩散是物质中原子(分子或离子)的迁移现象,是物质传输的一种方式。 气态和液态的扩散是人们在生活中熟知的现象,例如在花园中漫步,会感到 扑鼻花香;又如,在一杯净水中滴入一滴墨汁,不久杯中原本清亮的水就会变得 墨黑。这种气味和颜色的均匀化过程,不是由于物质的搅动或对流造成的,而是 由于物质粒子(分子、原子或离子)的扩散造成的。扩散会造成物质的迁移,会 使浓度均匀化,而且温度越高,扩散进行得越快