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一、静电场 实验证实了两静止电荷间存在相互作用的静电力,但其相互作用是怎样实现的?

第一节引言 硅平面工艺是制造 MOS IC的基础。利用不同的 掩膜版,可以获得不同功能的集成电路。因此, 版图设计成为开发新品种和制造合格集成电路的关键。 1、手工设计 人工设计和绘制版图,有利于充分利用芯片面 积,并能满足多种电路性能要求。但是效率低、 周期长、容易出错,特别是不能设计规模很大的 电路版图。因此,该方法多用于随机格式的、产 量较大的MSI和LSI或单元库的建立

1、进一步理解与掌握运放“虚短”与“虚断”的概念,并能熟练运用。 2、掌握基本运算电路。 3、模拟乘(除)法器、有源滤波电路

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