• 光学器件的冷加工基本工艺 • 光学器件的技术要求与工艺特点 • 粗磨、铣磨、精磨、抛光等主要工艺 • 光学辅料 • 其它重要工艺

复旦大学：《光子学器件与工艺 Photonics Devices and Technology》文献资料_激光与光电子学进展2009 对微纳光子学发展的一些战略思考

一、光强度、光矢量 二、光源、热光源发光的特点 三、光波的叠加 四、光程和光程差 五、相干光的获得

§8.1 表面吉布斯函数与表面张力 表面吉布斯函数σ 表面张力σ 影响表面张力的因素 巨大表面系统的表面吉布斯函数 §8.2 纯液体的表面现象 1. 弯曲液面的附加压力 2. 曲率对蒸气压的影响 3. 液体的润湿与铺展 4. 毛细管现象 §8.3 气体在固体表面上的吸附 1.气固吸附的一般常识 2.Langmuir单分子层吸附等温式 3.BET吸附等温式：多分子层气固吸附理论 4.其它吸附等温式 §8.4 溶液的表面吸附 1. 溶液表面的吸附现象 2. Gibbs吸附公式 3. 表面活性剂的吸附层结构 4. 表面膜 §8.5 表面活性剂及其作用 1.表面活性剂的分类 2.胶束和临界胶束浓度 3.表面活性剂的作用 §8.6 分散系统的分类 §8.7 溶胶的光学和力学性质 1.丁达尔（Tyndall）效应 2. 布朗（Brown）运动 3. 扩散 4. 沉降和沉降平衡 §8.8 溶胶的电性质 1.电动现象：电泳；电渗 2.溶胶粒子带电的原因 3.溶胶粒子的双电层 4.溶胶粒子的结构——胶团 §8.9 溶胶的聚沉和絮凝 1. 外加电解质对聚沉的影响 2. 溶胶的相互聚沉 3. 絮凝 §8.10 溶胶的制备和净化 §8.11 高分子溶液

一、光纤的结构、类型 二、光纤的传输特性 三、光纤的制造工艺 四、光纤的标准 五、光缆 六、新类型光纤

1.平面透射光栅光强公式 2.多缝衍射光栅光强分布 3.光栅的三个参量

17.1光源相千光 一、光和光波的波动方程 光是一种电磁波

8.1 光束的调制原理 8.2 晶体中光的传播特性 8.3 电光效应 8.4 电光调制 8.5 声光调制 8.6 磁光调制

第一章光的干涉 1光源的发光特性 一光源 光源的最基本发光单元是分、原子能级跃迁辐射

一、光的偏振性 ---- 光波的振动效应 二、光的干涉性 ---- 光波的相位效应 三、光的色散性 ---- 光波的频率效应