点击切换搜索课件文库搜索结果(9462)
文档格式:PPT 文档大小:79KB 文档页数:15
一、数学问题是什么 二、数学解题的过程与方法 三、问题解决的教学 四、体现“问题解决”的数学问题类型
文档格式:DOC 文档大小:234.5KB 文档页数:4
1、数学问题是什么; 2、数学解题的过程和方法; 3、问题解决的教学; 4、数学问题的类型
文档格式:PPT 文档大小:673.5KB 文档页数:140
在中华民族面临西方帝国主义列强的侵略 的同时,西方文化也在中国大量的传播,而且 当时中国的知识分子,大都认为只有西方的民 主与科学才能够使中国走上富强与独立的道路。 所以,一时间西方各类的思潮纷纷涌入中国, 对中国传统的文化与哲学提出了严峻的挑战。 这是一个西方各派哲学在冲撞与汇通过程中, 开始中国化的进程,也是中国传统哲学走向世 界,走向近代化的过程
文档格式:PPT 文档大小:343KB 文档页数:77
1840 年鸦片战争爆发,中国的近代史的 帷幕自此揭开。随着西方列强的侵入,中国被 迫卷入全世界历史发展的整个进程之中。在这 封建社会急剧解体以及中国开始向半殖民地半 封建社会过渡的转折时期,社会思潮发生了巨 大的变化。在鸦片战争前后,产生了龚自珍、 魏源两位哲学家。他们在中国近代哲学史中, 具有开拓性地位
文档格式:PPT 文档大小:627KB 文档页数:35
中国哲学发展到宋代,进入了一个综合的 时期,使得儒、释、道三家的融合成为主要趋 势。于是,中国古代哲学进入了融儒、释、道 为一体的理学时代。然而,封建社会逐步迈入 衰落时期,理学被僵化成维护封建专制统治的 工具。明朝中后期对理学的反叛自然包括对封 建专制统治的批判,这一过程始于明代的王守
文档格式:PPT 文档大小:111.5KB 文档页数:59
了解道教产生的 思想渊源、历史背景;掌握早期 道教经典《太平经》的主要哲学 思想;了解道教早期符法派的产 生过程,认识《想尔注》的宗教 哲学内容;了解金丹派道教的产 生情形,认识《周易参同契》的 结构特征,掌握其卦爻象征旨趣
文档格式:PPT 文档大小:1.36MB 文档页数:63
通过历史追溯,了解汉代初统治者对黄老之学的推崇情形,认识陆贾在黄老之学弘扬过程中的作用,掌握《淮南子》的主要思想内容,透析黄老之学在汉代早期繁荣的原因与历史作用
文档格式:PPT 文档大小:1.02MB 文档页数:15
从原理电路到实用电路,还需解决如下等问题: ① 交越失真—— 加偏置电路; ② 双电源 —— 单电源供电; ③ 互补管难配—— 准互补推挽电路; ④ 安全 —— 过载保护; ⑤ 充分激励—— 输入激励电路
文档格式:PPT 文档大小:1.8MB 文档页数:68
本章将讨论薄膜淀积的原理、过程和所需的设备,重点讨论SiO2和Si3N4等绝缘材料薄膜以及多晶硅的淀积。 通过本章的学习,将能够: 1. 描述出多层金属化。叙述并解释薄膜生长的三个阶段。 2. 提供对不同薄膜淀积技术的慨况。 3. 列举并描述化学气相淀积(CVD)反应的8个基本步骤,包括不同类型的化学反应。 4. 描述CVD反应如何受限制,解释反应动力学以及CVD薄膜掺杂的效应。 5. 描述不同类型的CVD淀积系统,解释设备的功能。讨论某种特定工具对薄膜应用的优点和局限。 6. 解释绝缘材料对芯片制造技术的重要性,给出应用的例子。 7. 讨论外延技术和三种不同的外延淀积方法。 8. 解释旋涂绝缘介质
文档格式:PPT 文档大小:927KB 文档页数:16
对于中规模、大规模和某些VLSI的IC,前面介绍的基本光刻工艺完全适用,然而 ,对于ULSI/VLSI IC 这些基本工艺已经明显力不能及。在亚微米工艺时代,某些光刻工艺在0.3µm以下明显显示出它的局限性。存在地问题主要包括:光学设备的物理局限;光刻胶分辨率的限制;晶园表面的反射现象和高低不平现象等
首页上页782783784785786787788789下页末页
热门关键字
搜索一下,找到相关课件或文库资源 9462 个  
©2008-现在 cucdc.com 高等教育资讯网 版权所有