采用磁控溅射方法制备分别以Ta和NiFeCr为缓冲层的Ta(NiFeCr)/NiFe/Ta薄膜材料.对于相同厚度的NiFe薄膜,与传统材料Ta相比,用NiFeCr作缓冲层薄膜的各向异性磁电阻有显著的提高.X射线衍射结果表明,与Ta缓冲层相比NiFeCr缓冲层可以诱导更强的NiFe(111)织构.高分辨透射电子显微镜结果表明,NiFeCr缓冲层和NiFe层的晶格匹配非常好,NiFe沿着NiFeCr外延生长,以NiFeCr为缓冲层的NiFe薄膜具有良好的晶体结构.对薄膜进行热处理,以NiFeCr缓冲层为缓冲薄膜的各向异性磁电阻值在350℃以下基本保持不变,当退火温度超过350℃后,其值会明显下降.以NiFeCr缓冲层的薄膜在350℃以下退火具有良好的热稳定性

在多元合金CAFE模型的基础上，分析了微观组织参数（形核密度、高斯分解参数、Gibbs-Thomson系数等）与430不锈钢凝固过程中晶粒形貌的复杂关系，以及过热度与冷却强度等工艺参数对凝固组织的影响.研究发现，晶粒尺寸和柱状晶向等轴晶转变不仅与体最大形核过冷度有关，也受体形核密度的影响.高斯分解参数和Gibbs-Thomson系数增大时，一次枝晶间距减小，等轴晶范围增大；但当它们增加至一定范围后，其对显微结构的影响逐渐变得不明显.过热度或冷却强度增大时，等轴晶范围减小，但一次枝晶间距的变化不明显

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