铁电体物理学研究的核心问题是自发极化。本章主要介绍有关铁电体物理学的一些基本概念；自发极化产生的机制；铁电相变与晶体的结构变化；极化状态在各种外界条件下的变化，即介电响应、压电、热释电、电致伸缩、光学效应等；最后适当介绍铁电物理效应的实验研究

机械振动:物体在一定位置附近作来回往复的运动。 广义振动:任一物理量(如位移、电流等)在某一 数值附近反复变化

§22-1 光的衍射和惠更斯 - 菲涅耳原理 §22-2 单缝的夫朗和费衍射 §22-3 光学仪器的分辨本领 §22-4 细丝和细粒的衍射 §22-6 衍射光栅 §22-6 光栅光谱 §22-7 x射线衍射

9.1界面现象和界面自由能 9.2溶液的表(界)面吸附 9.3固体表面吸附 9.4气-固相表面催化反应 9.5胶体性质和结构 9.6溶胶的动力学性质 9.7溶胶的光学性质 9.8溶胶的电学性质

1．掌握分散体系的基本特征。 2．了解溶胶的制备和净化。 3．掌握溶胶的光学性质、动力学性质和电学性质。 4．掌握溶胶在稳定性方面的特点和聚沉

全息干涉术是人们在大量全息照片的拍摄实践中发现并发展起来的一门新的光学干涉 技术．1962 年第一张激光全息照片成功地拍摄以后不久，美国以利思（E.N.Leith）为首的 全息研究小组偶然发现，当一张全息感光干板进行了二次重复曝光，而在这二次曝光之间， 被摄物又稍有移动，则摄得的全息照片的再现物像上将呈现出一些独特的干涉条纹簇．

折射率是透明材料的一个重要光学常数。测定透明材料折射率的方法很多，全反射法是其 中之一。全反射法具有测量方便快捷，对环境要求不高，不需要单色光源等特点。然而，因全 反射法属于比较测量，故其测量准确度不高（大约Δn=3×104），被测材料的折射率的大小受到 限制（约为 1.3～1.7），且对固体材料还需制成试件。尽管如此，在一些精度要求不高的测量中， 全反射法仍被广泛使用

§16.1 光矢量 光程 §16.2 光的干涉现象 相干光 §16.3 双缝干涉 §16.4 薄膜的等倾干涉 §16.5 薄膜的等厚干涉 §16.6 迈克耳逊干涉仪 §16.7 光源的相干性

第一章半导体材料导电型号、电阻率、少数载流子寿命的测量 第二章化学腐蚀一光学方法检测晶体缺陷和晶向 第三章霍尔系数、迁移率和杂质补偿度的测量 第四章外延片的物理测试 第五章红外吸收光谱在半导体测试技术中的应用 第六章扫描电子显微镜及其在半导体测试技术中的应用 第七章透射电子显微镜晶体缺陷分析 第八章Ⅹ射线在半导体测试技术中的应用 第九章结电容和CV测试技术 第十章半导体中痕量杂质分析

§18.1 自然光和偏振光 §18.2 起偏和检偏 马吕斯定律 §18.3 反射和折射时的偏振布儒斯特定律 §18.4 光的双折射 §18.5 偏振光的干涉 §18.6 旋光现象