一、滞后效应与滞后变量模型 二、分布滞后模型的估计 三、自回归模型的构建 四、自回归模型的估计

原子荧光光谱法是1964年以后发展起来的分析方法。原子荧光光谱法是以原子在辐射能激发下发射的荧光强度进行定量分析的发射光谱分析法。但所用仪器与原子吸收光谱法相近

9.1 设真实模型为无截距模型： Y X u i i = + 2 2 回归分析中却要求截距项不能为零，于是，有人采用的实证分析回归模型为：

1.下述哪种跃迁不能产生,为什么? (1)31S0-31P1(2)31S0-31D2 (3)3P2-3D3(4)43S1-43P1 (电子跃迁的选择定则) 2简要说明原子光谱项符号及能级图的含义。 3原子发射光谱产生的原理。 4.棱镜和光栅的分光原理有何不同,它们产生的光谱特征有何不同?

第一节概述 一、历史 原子吸收光谱法是一种基于待测基态原子对特征谱线的吸收而建立的一种分析方法。这一方法的发展经历了3个发展阶段: 1、原子吸收现象的发现 -1802年 Wollaston发现太阳光谱的暗线; -1859年 Kirchhoff和 Bunson解释了暗线产生的原因;

一、内能 功和热量 实际气体内能： 所有分子热运动的动能和分子间势能的总和

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电阻器的单位是欧姆，用表示，阻值较大的用千欧(k)或兆欧 (M)表示，1M=103kQ=106。 电阻器按结构可分为固定电阻器、可变电阻器、半可变电阻器， 按使用功能可分为热敏电阻器、压敏电阻器、光敏电阻器、熔断电 阻器等

一、机械加工工艺规程设计的内容及步骤 1.分析零件图和产品装配图 设计工艺规程时,首先应分析零件图和 该零件所在部件或总成的装配图,了解该零 件在部件或总成中的位置和功用以及部件或 总成对该零件提出的技术要求,分析其主要 技术关键和应相应采取的工艺措施,形成工 艺规程设计的总体构思