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概述本章将介绍基本芯片生产工艺的概况, 主要阐述4中最基本的平面制造工艺,分别是: 薄膜制备工艺掺杂工艺光刻工艺热处理工艺 薄膜制备是在晶体表面形成薄膜的加工工艺。 图4.4是MOS晶体管的剖面图,可以看出上面有 钝化层(Si3N4、Al2O3)、金属膜(AI)、氧化层(SiO2) 制备这些薄膜的材料有:半导体材料(Si、 GaAs等),金属材料(Au、A等),无机绝缘 材料(SiO2、Si3N4、Al2O3等),半绝缘材料 (多晶硅、非晶硅等)

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光合作用与呼吸作用是植物代谢的两大核心内容前者是物质合成与能量贮存过程, 属于同化作用;后者是物质分解与能量释放过程,属于异化作用。 呼吸作用是为生命活动提供能量的过程没有呼吸就没有生命生物的生长发育过程 离不开能量,一切代谢过程包括水分与矿质的吸收,物质的运输等都需要能量的推动

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“有收无收在于水,收多收少在于肥”植物在维持自的生命活动不仅需要从环境中吸收水 分,还需摄取各种矿质元素。植物对矿质盐的吸收、运转和同化,叫矿质营养。植物必需 的矿质元素及其生理作用;植物对矿质元素的吸收、同化和利用及机理;施肥增产的原因

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