第一节 绪论（概述） 第二节 栽培稻的起源及品种类型 第三节 水稻的生长发育 一、生育期与生育时期 二、水稻生长发育类型 三、水稻的温光反应特性及应用 第四节 稻的生长发育和器官建成 一、种子萌动和幼苗生长 二、叶的功能与生长 三、分蘖的生长 四、根的生长 五、茎的生长 六、穗的生长 七、抽穗、开花、灌浆、结实 第五节 水稻的产量与产量构成 一、水稻生物产量与经济产量 二、水稻的产量构成 三、产量构成因素间关系及产量调控 四、水稻产量形成模式与品种源库类型 第六节 水稻的施肥与灌溉技术 一、水稻施肥技术 二、水稻灌溉技术 第七节 水稻旱育稀植技术

1. 掌握热电偶测温的基本原理 2. 掌握热电偶回路的三大定律(中间温度定律,中间导体定律,标准电极定律) 3.了解工业热电偶的分类和两个重要的概念(分度号和分度表) 4.了解热电偶冷端的温度补偿的4种方法

1、试推导出图 4.1 的静态输出表达式和相应的 K 值，画出输入/输出曲线。 2、一应变电阻 R=120Ω，K=2，用作 800μm/m 的传感器元件，求ΔR， ΔR/R。若用电桥测量电路，U=4V，求相应的输出 U0。 如应变片所受应力减少，使相应的输出 U0 降至 1mV，求此时的应变值

1、晶体二极管开关特性 2、二极管限幅器及钳位器 3、晶体管开关特性 4、晶体三极管反相器

(1)流速改变为4m/s 时 恒速阶段: 两者干燥速度的 差异在于传热和传质速度 的差异. 空气流速越大, 传 热和传质系数越大, 干燥速 度也就越大

一、沉淀滴定法：以沉淀反应为基础的滴定分析方法 二、沉淀滴定法的条件： （1）沉淀的溶解度必须很小 （2）反应迅速、定量 （3）有适当的指示终点的方法 （4）沉淀的吸附现象不能影响终点的确定

7.1组建 Windows NT网络 7.2 Windows NT4.0概述 7.3 Windows NT中的基本概念 7.4文件系统选择 7.5安装和配置 Windows网络 7.6管理 Windows NT网络 7.7恢复或者修复被损坏的 Windows NT-SER系统

1 建立原始状态转移图和原始状态转 移表； 2 化简原始状态转移表； 3 进行状态编码； 4 选择触发器类型，求电路输出方程及各触发器的驱动方程； 5 画逻辑电路图

原子发射光谱法是一种成分分析方法，可对约70种 元素（金属元素及磷、硅、砷、碳、硼等非金属元素） 进行分析。这种方法常用于定性、半定量和定量分析。 在一般情况下，用于1%以下含量的组份测定，检出 限可达ppm，精密度为±10%左右，线性范围约2个数 量级。但如采用电感耦合等离子体（ICP）作为光源，则 可使某些元素的检出限降低至10-3 ~ 10-4ppm，精密度达 到±1%以下，线性范围可延长至7个数量级。这种方法 可有效地用于测量高、中、低含量的元素

2.2.1 半导体的压阻效应 2.2.2 体型半导体应变片 2.2.3 扩散型压阻式压力传感器 2.2.4 压阻式加速度传感器 2.2.5 测量桥路及温度补偿