价绍半导体材保程目标1、 课堂讲授+实作 料、器件基本制 4 学习+问题导 造步 价绍半导体工艺 课程目标1、2 2 课堂讲授+实作 技术基本步骤 学习 熔体单晶硅生 课程目标1、2 长技术 课堂讲授+实作 学习 区熔法单晶硅生 误程目标1、2 4 课堂讲授+实作 长：砷化嫁品 生长 学习 执氢化村得 5 杂保程目标1、2 质分布分析 课堂讲授+实作 学习 6 二氧化硅掩模特保程目标1、2 性、 氧化质量 课堂讲授+实作 氧化层厚度分 学习 析、氧化模拟 7 光学光刻 误程目标2 课堂讲授+实价 学习 课堂讲授+实作 新一代光刻技术课程目标2、 学习 9 光刻模拟 课程目标2 课堂讲授+实作 3、4 学习 0 湿法刻蚀 保程目标2、4 课堂讲授+实作 干法刻蚀及仿真 保程目标3 11 课堂讲授+实作 本扩散工艺 课程目标1、2 课堂讲授+实作 学习 离子注入分布 课程目标1、2 课堂讲授+实作 注入损伤和退 课堂讲授+实作 火，注入相关 果程目标1、2 学习 艺过程 15 化学气相淀积 程目标1、2 课堂讲授+实作 学习1 介绍半导体材 料、器件基本制 造步骤 课程目标1、 2、4 课堂讲授+实作 学习+问题导向 学习 2 介绍半导体工艺 技术基本步骤 课程目标1、2 课堂讲授+实作 学习 3 熔体单晶硅生 长技术 课程目标1、2 课堂讲授+实作 学习 4 区熔法单晶硅生 长；砷化镓晶体 生长 课程目标1、2 课堂讲授+实作 学习 5 热氧化过程，杂 质分布分析 课程目标1、2 课堂讲授+实作 学习 6 二氧化硅掩模特 性、氧化质量、 氧化层厚度分 析、氧化模拟 课程目标1、2 课堂讲授+实作 学习 7 光学光刻 课程目标2、 3、4 课堂讲授+实作 学习 8 新一代光刻技术 课程目标2、4 课堂讲授+实作 学习 9 光刻模拟 课程目标2、 3、4 课堂讲授+实作 学习 10 湿法刻蚀 课程目标2、4 课堂讲授+实作 学习 11 干法刻蚀及仿真 课程目标3 课堂讲授+实作 12 基本扩散工艺 课程目标1、2 课堂讲授+实作 学习 13 离子注入分布 课程目标1、2 课堂讲授+实作 学习 14 注入损伤和退 火，注入相关工 艺过程 课程目标1、2 课堂讲授+实作 学习 15 化学气相淀积 课程目标1、2 课堂讲授+实作 学习