点击下载:北京科技大学材料科学学院:《薄膜材料与纳米技术 Thin Film Materials & Nanotechnology》第五讲 薄膜材料制备的CVD方法 Preparation of thin films by CVD methods
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化学气相沉积过程的热力学 CVD过程的一般形式为 其自由能的变化为 其中a、b、c是反应物和反应产物的摩尔数。由此 a为物质的活度,它相当于其有效的浓度。化学气相沉积过程的热力学 其自由能的变化为 CVD过程的一般形式为: aA+bB=cC ai为物质的活度,它相当于其有效的浓度。 G = cGC −aGA −bGB 其中a、b、c是反应物和反应产物的摩尔数。由此 G G RT a a a c a b = + ln C A B
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