母材料科平与技末 4.5硅片腐蚀和抛光T艺的化学原理………………”… 86 4.5硅的化学腐蚀的原理……………… 4.5.2影响硅的化学腐蚀的因素… 4.5.3硅片表约化学机械德光的原理 4.5链片表面的清洗及其婷理 4.6.1片表面清线的重要性… 42硅片表面可能沾污的杂质… 化学清洗的 1.54去离子水在清洗中的作用 1乐5超声在清洗中的作用…………*… 26 1.5.6真空高处理的清洗作用 45.7硅片清洗所用的化学清洗倒和清洗L艺的篡理 4.7去离子水的制备 4.7.1离子交炭树斷 4.7,2 离f交原理 即mmm 1.3去离子水的制备工艺 4.7.4反透法制备纯水 参考文螈 第五章硅和硅基薄膜的外延生长…………… 5.1概述“… 80 1.1硅外延技术发展历吏…… 5.1.2外延技术在器件工艺中的应用 5.2硅的气相外延生长 5.21气相外廷的生长机理 522常规CVD外廷技术 5.3硅的分子束外廷…………… .3.1发展历史 5.3.2分子束外延设备………… 5.3.3硅然分子束外廷生长机莲………m……… 5.3.4外延温度………… 5.4硅的液桕外恁“ t.1硅液相外廷的基本原 啪粥肥训那 5.4.2硅液相外廷中溶的择 5.4.3姓液相外廷生长系统 1.:硅液桁外廷的优缺点 32 5,4.5硅液相外延层的些性质… 6硅液相外廷的用和羰望 5.5硅的周相外延……… 5.1无分质输运情况 5.5.2介质验运生长