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3.7.2湿度的辐活测景 3.8真空技术 3.8.1真空系统的基本规律……………………………………12 3.8.2真空泵 177 8.3真空度测踅仅 3.B.!检漏技术 参考文献 第四章硅的体单晶生长和毽片加工… .]概述 4.2硅单品的Z法生长 93 4.21Z法的基本原理………… 1.2.2牛长系统中的热…… 2.3熔体中的对流 .2,4生长荠面的形状……… 425生长藏的单量中不同位置上品体约生长条件历史的差异 4.26杂质的引入、分布和杂技术 L27C乙法生长设备 L2.8CZ法生长的工艺过程 2] 4.2.9MCZ生长 .2.10连缓(21长……… …:218 L3硅单福的FZ法生长 31悬滑区臀法生长硅单晶的原理 L.3.2区熔品炉 133区生长工艺 434区怒单品中的杂质分右 229 区熔硅带品的诊杂技术 46探测器缓韃单晶的生长……………… 437氦区硅单晶的长 1.8磷构与梡 4.4硅片加工技术 4.4.1集成电路制造对干硅光片加[的要求 22 1.12品向的测定 4.4.3单品锭豹外形加工 4.4.4切片 t.4.6磨片 1.t.7硅片蚀…m…mm………m L.8范光 1.4.10光片的包寝和储存 L4.1化学衡和化学清洗L艺中的安全操作
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