商业计划书一摘要 -1 第一章、搞要 1.1本商业计划的简单描述 本商业计划所涉及的项目属微电子技术与基础材料相关领域,以河北工业大学微电子研究所为 依托,历时20年研发,主要为从事微电子材料抛光液与清洗剂的开发应用、生产以及销售。以改 进微电子产品生产工艺、提高其产品质量、降低其生产成本为目的。2000年,该项目曾获得国家 科技部科技型中小企业创新基金100万元;2001年,获得天津市“十五”重大攻关项目无偿资助 100万元。 生产产品主要包括 以“FAO超大规模集成电路(ULSI)多层布线介质及铜布线化学机械全局 平面化(CMP)纳米磨料抛光液”为代表的国际首例高技术产品 以“FAO集成电路衬底硅片纳米磨料抛光液”、“FAO电子材料清洗剂、半 导体材料切削液、倒角液、磨削液、活性剂”为代表的高技术更新换代产品。 产品主要应用于超大规模集成电路(ULSI)衬底半导体材料、半导体器件、正扩大应用于电视 机玻壳,液晶显示屏、液晶显示屏基片玻璃、高档金属材料加工、蓝宝石、不锈钢模具及增加二次 采油率等领域。 产品的各项主要指标分别达到和超过国际上最先进的美国 Rodel cabot公司和日本 Fujimi、“花 王”公司的相关产品,属于国际领先水平,是具有知识、技术密集,高效率、高效益、高水平的高 新技术产品。 系列产品有五项产品获国家发明奖,已经通过Iso9001(2000版)质量认证。 当前在被动销售情况下,产品年销售额为200多万元,并开始进入在集成电路制造行业处于先 进水平的台湾市场。鉴于河北工业大学微电子研究所资金的局限,特此融资以满足大规模化生产、 检测和推广的经费要求,从而改变目前被动销售的局面。 12机会概述 作为世界电子信息产品的主要生产基地,2003年,我国电子信息产业投资类产品显现强劲增长 态势,头两月生产增速高达42%。北京、上海、天津等地的“十五”计划兴建的各大集成电路生产 线业已投产或即将投产。国内CMP抛光液的市場需求量急剧增加。各集成电路厂商降低成本的愿 望强烈,对我方产品的价格优势极为青睐。这为我方各项产品的扩大生产提供了良好的市场机遇。 13目标市场的描述和预测 我方产品是在研究|C加工工艺过程中开发的与工艺配套的关键系列耗材。现阶段国内每年有 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有,未黴得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方商业计划书-摘要 -1- 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有，未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方 第一章、摘要 1.1 本商业计划的简单描述 本商业计划所涉及的项目属微电子技术与基础材料相关领域，以河北工业大学微电子研究所为 依托，历时 20 年研发，主要为从事微电子材料抛光液与清洗剂的开发应用、生产以及销售。以改 进微电子产品生产工艺、提高其产品质量、降低其生产成本为目的。2000 年，该项目曾获得国家 科技部科技型中小企业创新基金 100 万元；2001 年，获得天津市“十五”重大攻关项目无偿资助 100 万元。 生产产品主要包括： ➢ 以“FA/O 超大规模集成电路（ULSI）多层布线介质及铜布线化学机械全局 平面化（CMP）纳米磨料抛光液”为代表的国际首例高技术产品； ➢ 以“FA/O 集成电路衬底硅片纳米磨料抛光液”、“FA/O 电子材料清洗剂、半 导体材料切削液、倒角液、磨削液、活性剂”为代表的高技术更新换代产品。 产品主要应用于超大规模集成电路（ULSI）衬底半导体材料、半导体器件、正扩大应用于电视 机玻壳，液晶显示屏、液晶显示屏基片玻璃、高档金属材料加工、蓝宝石、不锈钢模具及增加二次 采油率等领域。 产品的各项主要指标分别达到和超过国际上最先进的美国 Rodel、Cabot 公司和日本 Fujimi、“花 王”公司的相关产品，属于国际领先水平，是具有知识、技术密集，高效率、高效益、高水平的高 新技术产品。 系列产品有五项产品获国家发明奖，已经通过 ISO9001（2000 版）质量认证。 当前在被动销售情况下，产品年销售额为 200 多万元，并开始进入在集成电路制造行业处于先 进水平的台湾市场。鉴于河北工业大学微电子研究所资金的局限，特此融资以满足大规模化生产、 检测和推广的经费要求，从而改变目前被动销售的局面。 1.2 机会概述 作为世界电子信息产品的主要生产基地，2003 年，我国电子信息产业投资类产品显现强劲增长 态势，头两月生产增速高达 42％。北京、上海、天津等地的“十五”计划兴建的各大集成电路生产 线业已投产或即将投产。国内 CMP 拋光液的市場需求量急剧增加。各集成电路厂商降低成本的愿 望强烈，对我方产品的价格优势极为青睐。这为我方各项产品的扩大生产提供了良好的市场机遇。 1.3 目标市场的描述和预测 我方产品是在研究 IC 加工工艺过程中开发的与工艺配套的关键系列耗材。现阶段国内每年有