(1)教学重点：真空物理基础知识： (2)教学难点：真空泵工作原理和真空测量的基本原理。 第2章蒸发法(6学时) 1.教学内容 (1)物质的热蒸发：真空蒸发原理：蒸发镀膜过程：饱和蒸气压和温度的关系：蒸发速 率：化合物的蒸发：合金的蒸发： (2)薄膜沉积的厚度均匀性与纯度：沉积的几何方向性对薄膜均匀性的影响：蒸发源的 几何形状对薄膜均匀性的影响：蒸发源与基片的相对位置配置：薄膜纯度： (3)真空蒸发装置：电阻蒸发源装置：电子束蒸发装置：电弧蒸发装置：高频感应蒸发 装置；脉冲激光沉积装置。 2.重、难点提示 (1)教学重点：影响薄膜纯度和厚度均与性的因素，真空蒸镀技术： (2)教学难点：各种蒸发装置的工作原理。 第3章溅射法及其他物理气相沉积方法(8学时) 1.教学内容 (1)气体的放电现象：溅射的发展及热点：辉光放电： (2)物质的溅射现象：溅射特性：溅射过程： (3)溅射机理：热蒸发理论：动量转移理论： (4)溅射镀膜类型：直流溅射、射频溅射、磁控溅射、反应溅射、偏压溅射： (⑤)其他物理气相沉积方法方法：离子镀。 2.重、难点提示 (1)教学重点：气体的辉光放电，溅射镀膜技术： (2)教学难点：溅射的机理以及各种溅射镀膜的原理。 第4章薄膜的化学气相沉积(4学时) 1.教学内容 (1)化学气相沉积反应的类型：高温分解反应：氧化反应：合成反应：歧化反应： (2)化学气相沉积过程的热力学：热力学计算的目的：Si单晶薄膜生长的热力学计算： (3)化学气相沉积过程的动力学：气体输运过程；气体输运与薄膜均匀性：$ⅰ单晶薄膜 生长的动力学计算：(1)教学重点：真空物理基础知识； (2)教学难点：真空泵工作原理和真空测量的基本原理。 第 2 章 蒸发法（6 学时） 1．教学内容 (1)物质的热蒸发：真空蒸发原理；蒸发镀膜过程；饱和蒸气压和温度的关系；蒸发速 率；化合物的蒸发；合金的蒸发； (2)薄膜沉积的厚度均匀性与纯度：沉积的几何方向性对薄膜均匀性的影响；蒸发源的 几何形状对薄膜均匀性的影响；蒸发源与基片的相对位置配置；薄膜纯度； (3)真空蒸发装置：电阻蒸发源装置；电子束蒸发装置；电弧蒸发装置；高频感应蒸发 装置；脉冲激光沉积装置。 2．重、难点提示 (1)教学重点：影响薄膜纯度和厚度均与性的因素，真空蒸镀技术； (2)教学难点：各种蒸发装置的工作原理。 第 3 章 溅射法及其他物理气相沉积方法（8 学时） 1．教学内容 (1)气体的放电现象：溅射的发展及热点；辉光放电； (2)物质的溅射现象：溅射特性；溅射过程；； (3)溅射机理：热蒸发理论；动量转移理论； (4)溅射镀膜类型：直流溅射、射频溅射、磁控溅射、反应溅射、偏压溅射； (5)其他物理气相沉积方法方法：离子镀。 2．重、难点提示 (1)教学重点：气体的辉光放电，溅射镀膜技术； (2)教学难点：溅射的机理以及各种溅射镀膜的原理。 第 4 章 薄膜的化学气相沉积（4 学时） 1．教学内容 (1)化学气相沉积反应的类型：高温分解反应；氧化反应；合成反应；歧化反应； (2)化学气相沉积过程的热力学：热力学计算的目的；Si 单晶薄膜生长的热力学计算； (3)化学气相沉积过程的动力学：气体输运过程；气体输运与薄膜均匀性；Si 单晶薄膜 生长的动力学计算；