第宄章基本咒刻工艺--从曝到最终裣验 混凝显影 虽然喷射显影有很多有点,但对正性光刻胶 显影还存在一些问题,混凝显影就是针对所存在 地问题而改进的一种针对正性胶的光刻工艺,差 别在于显影化学品的不同。 如图所示,首先在静止的晶园表面上覆盖一层显 影液,停留一段时间(吸盘加热过程),在此过 程中,大部分显影会发生,然后旋转并有更多的 显影液喷到晶园表面并冲洗、干燥第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －2－ ◼ 混凝显影 虽然喷射显影有很多有点，但对正性光刻胶 显影还存在一些问题，混凝显影就是针对所存在 地问题而改进的一种针对正性胶的光刻工艺，差 别在于显影化学品的不同。 如图所示，首先在静止的晶园表面上覆盖一层显 影液，停留一段时间（吸盘加热过程），在此过 程中，大部分显影会发生，然后旋转并有更多的 显影液喷到晶园表面并冲洗、干燥