用DS(六甲基二硅胺脘)。表面处理的主要作用是提高光刻胶与 衬底之间的粘附力，使之在显影过程中光刻胶不会被液态显影液渗透。 2、匀胶 匀胶时避免灰尘、小颗粒进入胶层，否则会造成有杂质的区域因 没有胶膜保护而被腐蚀掉：如果正好发生在条形台面上，会直接影响 这部分管芯的特性参数。在湿度大的季节，为保证光刻胶与基片附着 牢固，有时将片子放入表面处理剂中浸泡以增加粘附性能。 3、前烘 目的是蒸发掉胶中的有机溶剂成分，使晶圆表面的胶固化。这个 过程中胶中的溶剂基本被蒸发掉，因而通常情况下胶的厚度会变薄 (大约减少25%)。光刻胶固化，温度要适当，大约90~100度，时 间20分钟左右。 4、曝光 曝光灯的光强会随着工作时间的延长而逐渐下降，应定期监控光 强密度。光强太弱，使曝光时间不充分，在显影的时候容易留有底膜、 线条边缘不齐整。光强太强，显影速度太快，不容易控制图形。因此 要通过多次实验（曝光和显影），确定合适的曝光时间。 曝光能量=光强密度X曝光时间。 5、显影 用化学显影液将曝光造成的光刻胶的可溶解区域溶解就是光刻 胶的显影，其主要目的就是把掩膜版的图形准确复制到光刻胶中。 常见的显影液有NaOH(Shipley351),KOH(Shipley606),TMAH 用 HMDS （六甲基二硅胺脘）。表面处理的主要作用是提高光刻胶与 衬底之间的粘附力，使之在显影过程中光刻胶不会被液态显影液渗透。 2、匀胶 匀胶时避免灰尘、小颗粒进入胶层，否则会造成有杂质的区域因 没有胶膜保护而被腐蚀掉；如果正好发生在条形台面上，会直接影响 这部分管芯的特性参数。在湿度大的季节，为保证光刻胶与基片附着 牢固，有时将片子放入表面处理剂中浸泡以增加粘附性能。 3、前烘 目的是蒸发掉胶中的有机溶剂成分，使晶圆表面的胶固化。这个 过程中胶中的溶剂基本被蒸发掉，因而通常情况下胶的厚度会变薄 （大约减少 25%）。光刻胶固化，温度要适当，大约 90～100 度，时 间 20 分钟左右。 4、曝光 曝光灯的光强会随着工作时间的延长而逐渐下降，应定期监控光 强密度。光强太弱，使曝光时间不充分，在显影的时候容易留有底膜、 线条边缘不齐整。光强太强，显影速度太快，不容易控制图形。因此 要通过多次实验（曝光和显影），确定合适的曝光时间。 曝光能量=光强密度 X 曝光时间。 5、显影 用化学显影液将曝光造成的光刻胶的可溶解区域溶解就是光刻 胶的显影， 其主要目的就是把掩膜版的图形准确复制到光刻胶中。 常见的显影液有 NaOH (Shipley 351), KOH (Shipley 606) ,TMAH