第8期 周和荣等：7A04铝合金在薄液膜下腐蚀行为 ,885 6 -100 -42h (b) +6h -80 -24h --48h -72h -60 -m-168h -40 一4一2n -2 --6h -=24h 20 --48h -4-72h --168h 0.2 0.40.6 0.8 1031021010910110101010 Z10Ω：cm） 频率Hz 图1010000hm液膜下的Nyquist图和Bode图随时间的变化 Fig-10 Nyquist (a)and Bode plots (b)at the electrolyte layer of 10000m in thickness 慢]，电极表面的腐蚀产物还较少，金属离子的阳 极溶解过程可以认为相对容易，薄液膜下腐蚀的阴 极过程主要是氧的去极化过程，而在本体溶液和厚 液膜下（如500m液膜下）氢的还原过程相对较弱， 所以110m液膜下腐蚀速率最大.随腐蚀时间的 延长，7A04铝合金在不同液膜厚度下的腐蚀速率发 生变化，到腐蚀后期(96~168h),材料在本体溶液 R,一溶液电阻；C口一外电层的电容：R1一腐蚀产物及氧化膜电 中腐蚀速率最大，这是因为在液膜厚度较薄的电极 阻；C阳一双电层电容：R。一电荷转移电阻 表面形成的腐蚀产物增多，腐蚀产物堆积覆盖在电 极表面，抑制了腐蚀，腐蚀速率趋于稳定，而在厚液 图11薄液膜下7A04铝合金/电解液(1molL一NaS04)界面 膜以及本体溶液中，阳极形成的腐蚀产物可以通过 的等效电路 Fig-11 Equivalent circuit for the 7A04 aluminium alloy under the 扩散进入溶液，尽管阴极的氧去极化过程减弱，但本 thin layer electrolyte 体溶液的氢离子还原过程仍旧进行，同时溶液中的 表160m下EIS参数随时间的变化 Table 1 Variation of EIS parameters at the electrolyte layer of 60m in thickness with time 时间 R/ (Yo)1/ R1/ (Ya)2/ Ral (10-7n-1em-2) 名 n2 h (cm2) (cm3) (10-n-1cm-2) (103ncm2) 2 220.10 8.59 0.7874 9.732×105 1.827 0.5965 130.6 6 218.30 8.615 0.8080 6.556×105 1.066 0.6284 930.5 24 215.90 16.68 0.8846 401.0 3.301 0.8726 72.97 48 228.60 28.87 0.8892 872.3 3.029 0.8733 22.42 72 208.70 46.74 0.8749 5282.0 2.600 0.9215 12.21 168 254.00 87.01 0.7686 2.754×10 6.859 1.0000 5.711 注：R,为溶液电阻：(Y)1为外电层的电容；R1为腐蚀产物及氧化膜电阻：(Yo)2为双电层电容；R:为电荷转移电阻：1,2为电容参数 表2110hm下EIS参数随时间的变化 Table 2 Variation of EIS parameters at the electrolyte layer of 110/m in thickness with time 时间 R/ (Yo)/ Ri/ (Yo)2/ Ral 1 n2 h (cm2) (10-6n-1em-2) (cm3) (10-6n-1cm-3) (103cm2) 2 42.00 1.622 0.9180 10.020 4.236 0.9089 78.24 6 43.03 1.940 0.9072 11.590 3.970 0.8980 60.87 24 42.02 16.31 0.8184 715.70 11.66 0.9929 8.103 48 44.20 21.63 0.7767 1063.0 25.28 0.9560 6.001 会 50.15 20.89 0.7836 1076.0 44.36 0.9252 5.580 168 79.53 24.77 0.7747 1016.0 77.84 0.8539 5.258图10 10000μm 液膜下的 Nyquist 图和 Bode 图随时间的变化 Fig．10 Nyquist （a） and Bode plots （b） at the electrolyte layer of 10000μm in thickness 图11 薄液膜下7A04铝合金／电解液（1mol·L －1 Na2SO4）界面 的等效电路 Fig．11 Equivalent circuit for the 7A04aluminium alloy under the thin layer electrolyte 慢［9］‚电极表面的腐蚀产物还较少‚金属离子的阳 极溶解过程可以认为相对容易‚薄液膜下腐蚀的阴 极过程主要是氧的去极化过程‚而在本体溶液和厚 液膜下（如500μm 液膜下）氢的还原过程相对较弱‚ 所以110μm 液膜下腐蚀速率最大．随腐蚀时间的 延长‚7A04铝合金在不同液膜厚度下的腐蚀速率发 生变化‚到腐蚀后期（96～168h）‚材料在本体溶液 中腐蚀速率最大‚这是因为在液膜厚度较薄的电极 表面形成的腐蚀产物增多‚腐蚀产物堆积覆盖在电 极表面‚抑制了腐蚀‚腐蚀速率趋于稳定‚而在厚液 膜以及本体溶液中‚阳极形成的腐蚀产物可以通过 扩散进入溶液‚尽管阴极的氧去极化过程减弱‚但本 体溶液的氢离子还原过程仍旧进行‚同时溶液中的 表1 60μm 下 EIS 参数随时间的变化 Table1 Variation of EIS parameters at the electrolyte layer of 60μm in thickness with time 时间 ／h Rs／ （Ω·cm 2） （ Y0）1／ （10－7Ω－1·cm －2） n1 R1／ （Ω·cm 2） （ Y0）2／ （10－6Ω－1·cm －2） n2 Rct／ （104Ω·cm 2） 2 220∙10 8∙59 0∙7874 9∙732×105 1∙827 0∙5965 130∙6 6 218∙30 8∙615 0∙8080 6∙556×105 1∙066 0∙6284 930∙5 24 215∙90 16∙68 0∙8846 401∙0 3∙301 0∙8726 72∙97 48 228∙60 28∙87 0∙8892 872∙3 3∙029 0∙8733 22∙42 72 208∙70 46∙74 0∙8749 5282∙0 2∙600 0∙9215 12∙21 168 254∙00 87∙01 0∙7686 2∙754×104 6∙859 1∙0000 5∙711 注：Rs 为溶液电阻；（ Y0）1 为外电层的电容；R1 为腐蚀产物及氧化膜电阻；（ Y0）2 为双电层电容；Rct为电荷转移电阻；n1‚n2 为电容参数． 表2 110μm 下 EIS 参数随时间的变化 Table2 Variation of EIS parameters at the electrolyte layer of 110μm in thickness with time 时间 ／h Rs／ （Ω·cm 2） （ Y0）1／ （10－6Ω－1·cm －2） n1 R1／ （Ω·cm 2） （ Y0）2／ （10－6Ω－1·cm －2） n2 Rct／ （103Ω·cm 2） 2 42∙00 1∙622 0∙9180 10∙020 4∙236 0∙9089 78∙24 6 43∙03 1∙940 0∙9072 11∙590 3∙970 0∙8980 60∙87 24 42∙02 16∙31 0∙8184 715∙70 11∙66 0∙9929 8∙103 48 44∙20 21∙63 0∙7767 1063∙0 25∙28 0∙9560 6∙001 72 50∙15 20∙89 0∙7836 1076∙0 44∙36 0∙9252 5∙580 168 79∙53 24∙77 0∙7747 1016∙0 77∙84 0∙8539 5∙258 第8期 周和荣等：7A04铝合金在薄液膜下腐蚀行为 ·885·