2、化学位移产生原因及其表示方法 原因 分子中的原子核处在核外电子氛围中,电子在外加磁场的的作用下产 生次级磁场,该原子核受到了屏蔽: B=B6-OB=(1-)B B为核实所受到的磁场,0电子云密度决定的屏蔽常数,与化学结构密 切相关 表示方法: 由于不同核化学位移相差不大,有时会发生共振吸收频率漂移,因此 在实际工作中,化学位移不能直接精确测定,一般以相对值表示。即 于待测物中加一标准物质(如TMS),分别测定待测物和标准物的吸 收频率wx和v,以下式来表示化学位移δ s×10°(ppm) δ无量纲,对于给定的质子峰,其值与射频辐射无关。 在NMR中,通常以四甲基硅烷TMs作标准物,因为: a)由于四个甲基中12个H核所处的化学环境完全相同,因此在核磁共振 图上只出现一个尖锐的吸收峰。 b)屏蔽常数σ较大,因而其吸收峰远离待研究的峰的高磁场低频)区。 C)TMS化学惰性、溶于有机物、易被挥发除去。 d)含水介质-三甲基丙烷黄磺酸钠 e)高温环境-六甲基二硅醚2、化学位移产生原因及其表示方法 ⚫ 原因： 分子中的原子核处在核外电子氛围中，电子在外加磁场的的作用下产 生次级磁场，该原子核受到了屏蔽： 0 0 0 B = B −B = (1− )B B 为核实际受到的磁场，-由电子云密度决定的屏蔽常数，与化学结构密 切相关。 ⚫ 表示方法: 由于不同核化学位移相差不大，有时会发生共振吸收频率漂移，因此， 在实际工作中，化学位移不能直接精确测定，一般以相对值表示。即 于待测物中加一标准物质（如 TMS），分别测定待测物和标准物的吸 收频率x和s，以下式来表示化学位移： 10 ( ) 6 ppm s x s  − =     无量纲，对于给定的质子峰，其值与射频辐射无关。 在 NMR 中，通常以四甲基硅烷 TMS 作标准物，因为： a) 由于四个甲基中 12 个 H 核所处的化学环境完全相同，因此在核磁共振 图上只出现一个尖锐的吸收峰。 b) 屏蔽常数较大，因而其吸收峰远离待研究的峰的高磁场(低频)区。 c) TMS—化学惰性、溶于有机物、易被挥发除去。 d) 含水介质---三甲基丙烷黄磺酸钠 e) 高温环境---六甲基二硅醚