HF-HNO3氬氟酸硝酸)腐蚀系统(各向同性腐蚀) HF-HNO3和H2O(或CH3COOH乙酸 硅表面的阳极反应为S+2h+S2+ h+表示空穴,即S得到空穴后升至较高的氧化态 腐蚀液中的水解离发生下述反应: H2O=(OH)+H+:S+与(OH)结合为 Si, +2(oH)- Si(OH)2 接 着S(OH)2放出H2并形成SO2,即 Si(OH)2 SiO2 + H2 SiO,+6HF HoSiF +2 HO▪HF-HNO3和H2O（或CH3COOH 乙酸） ▪硅表面的阳极反应为Si+2h+ Si 2+ h+表示空穴，即Si得到空穴后升至较高的氧化态 ▪腐蚀液中的水解离发生下述反应： H2O=(OH)-+H+；Si +与(OH)-结合为： Si2+2(OH)- Si(OH)2 接 着Si(OH)2放出H2并形成SiO2，即 Si(OH)2 SiO2+ H2 ▪SiO2+6HF H2SiF6+2 H2O HF-HNO3 (氢氟酸-硝酸)腐蚀系统（各向同性腐蚀）