表2-2显示器件( AMOLED)制造产污环节分析列表 类别 产生工序 来源 主要污染物 柔性层涂覆及固化、光亥 阵列工艺 光刻胶剥离、平面层及固 MP(N甲基吡咯烷酮)丙二醇 化、其灰化等工序 单甲醚乙酸酯( PGMEA)丙二醇 有机废气 OLED工艺 单甲醚(PGME)羟乙基哌嗪(HE 掩模板清洗 醇丁醚(BDG,MMF(吗替麦 模组工艺 电极边清洁 考酚酯)异丙醇、酒精 阵列工艺 稀氢氟酸清洗、激光退火、BOE清氤氧化物、氟化物、磷酸、乙酸 酸性废气 先、IOAg/TO刻蚀工序 OLED工艺 激光剥离工序 氯化氢 废气 污染碱性废气 阵列工艺 光刻显影 氨气 阵列工艺 化学气相沉积、干法刻蚀氯气、氯化氢、氟化物、氮氧化物 工艺尾气 OLED工艺 化学气相沉积 氨气、硅烷、磷烷 阵列、OLED工艺 PECVD炉腔清洗 氟化物、氮氧化物 锅炉烟气 锅炉燃气 颗粒物、SO2、NOx 阵列工艺、OLED工艺 般排气 厂房排气 模组工艺 一般排气 少量酒精、异丙醇 有机废水阵列工艺、OLED工艺 清洗过程、掩膜光刻、光刻 胶剥离、掩膜版清洗 pH、COD、BODs、NH-N、SS 含磷银废水 阵列工艺 IOAg/TO刻蚀清洗 H、COD、BOD3、SS、Ag、磷酸 酸碱废水阵列工艺、OLED工艺 ITO刻蚀 含氟废水 阵列工艺 稀氢氟酸清洗、BOE清洗|pH、氟化物、COD、BOD5、S POU 废水L洗涤塔排水阵列工艺、OLED工艺 工艺尾气处理系统排水pH、氟化物、COD、NH3N、Cr 污染酸碱废气洗涤阵列工艺、OLED工艺 H、COD、BOD5、NH3N、SS 源|塔排水 酸碱废气处理系统排水 纯水制备再生 酸碱及反冲洗 纯水制备 离子交换再生酸碱废水反 H、Ss 冲洗废水 RO浓水 纯水制备 渗透RO浓水 清洗水回收系 统排水 工艺清洗水回收系统 需定期进行反冲洗 冷却塔排水 循环冷却水系统 冷却塔 盐类、9 表 2-2 显示器件（AMOLED）制造产污环节分析列表 类别 产生工序 来源 主要污染物 废气 污染 源 有机废气 阵列工艺 柔性层涂覆及固化、光刻、 光刻胶剥离、平面层及固 化、其灰化等工序 NMP（N-甲基吡咯烷酮）、丙二醇、 单甲醚乙酸酯（PGMEA）、丙二醇 单甲醚（PGME）、羟乙基哌嗪（HEP）、 乙二醇丁醚(BDG)、MMF（吗替麦 考酚酯）、异丙醇、酒精 OLED 工艺 掩模板清洗 模组工艺 电极边清洁 酸性废气 阵列工艺 稀氢氟酸清洗、激光退火、BOE 清 洗、ITO/Ag/ITO 刻蚀工序 氮氧化物、氟化物、磷酸、乙酸、 氯化氢 OLED 工艺 激光剥离工序 氯化氢 碱性废气 阵列工艺 光刻显影 氨气 工艺尾气 阵列工艺 化学气相沉积、干法刻蚀 氯气、氯化氢、氟化物、氮氧化物、 氨气、硅烷、磷烷 OLED 工艺 化学气相沉积 阵列、OLED 工艺 PECVD 炉腔清洗 氟化物、氮氧化物 锅炉烟气 锅炉 锅炉燃气 颗粒物、SO2、NOx 厂房排气 阵列工艺、OLED 工艺 一般排气 无 模组工艺 一般排气 少量酒精、异丙醇 废水 污染 源 有机废水 阵列工艺、OLED 工艺 清洗过程、掩膜光刻、光刻 胶剥离、掩膜版清洗 pH、COD、BOD5、NH3 -N、SS 含磷银废水 阵列工艺 ITO/Ag/ITO 刻蚀清洗 pH、COD、BOD5、SS、Ag、磷酸 盐、Ag 酸碱废水 阵列工艺、OLED 工艺 ITO 刻蚀 pH、SS 含氟废水 阵列工艺 稀氢氟酸清洗、BOE 清洗 pH、氟化物、COD、BOD5、SS POU 洗涤塔排水 阵列工艺、OLED 工艺 工艺尾气处理系统排水 pH、氟化物、COD、NH3-N、Cl- 酸碱废气洗涤 塔排水 阵列工艺、OLED 工艺 酸碱废气处理系统排水 pH、COD、BOD5、NH3-N、SS、 F - 纯水制备再生 酸碱及反冲洗 废水 纯水制备 离子交换再生酸碱废水、反 冲洗废水 pH、SS RO 浓水 纯水制备 反渗透 RO 浓水 － 清洗水回收系 统排水 工艺清洗水回收系统 需定期进行反冲洗 pH、SS 冷却塔排水 循环冷却水系统 冷却塔 盐类、SS