854 心理科学进展 第20卷 皮质在内的一些脑区结构，是大脑静息态网络的 向被试呈现人格形容词，分别判断是否适合描述 组成部分，其显著特征是在静息状态(rest state)时 自我、他人或判断字形。结果发现，和判断他人 基线较高，在执行目标指向行为时活动反而降 或字形相比，自我参照加工时内侧前额叶皮质和 低。目前越来越多的研究者认为皮质中线结构在 后扣带回皮质(posterior cingulated cortex,.PCC)激 自我相关的加工中具有重要作用（程蕾，陈煦海， 活增强，说明自我主要表征于这些脑区（杨帅，黄 黄希庭，201l)。Uddin,.lacoboni,Lange和Keenan 希庭，王晓刚，尹天子，2012)。自此，内侧前额叶 (200)回顾了以往研究认为，皮质中线结构是抽 皮质引起了研究者的广泛关注，被认为是加工自 象的、评价性的和整合性的自我和他人信息加工 我时的重要脑区而从皮质中线结构的众多脑区中 的基础，而自我和他人的身体表征主要是额顶镜 凸显出来。Zhu(2004)认为，自我面孔识别发生在 像神经元区(frontoparietal mirror-neuron areas)的 右侧大脑，自传记忆主要与海马有关，情景记忆 功能，该研究中的皮质中线结构被界定为包含内 提取主要与右侧前额叶有关，而内侧前额叶的激 侧前额叶皮质、前扣带回皮质(anterior cingulated 活仅仅是自我参照的表征（杨娟，张庆林，2010）。 cortex,ACC)和楔前叶(precuneus)的脑区结构。 Amodio和Frith(2006)的研究显示，内侧前额叶 Northoff等(2006)分析发现，各类自我参照加工和 皮质和后扣带回皮质同时参与了自我评价和自我 皮质中线结构激活均密切相关：皮质中线结构的 知识(self-knowledge)的加工；Rameson,Satpute和 腹侧编码与表征自我的刺激有关：背侧负责在与 Lieberman(2010)的研究发现，内隐和外显自我信 自我无关的刺激的背景下重新评估与自我相关的 息的加工主要是内侧前额叶皮质、后扣带回皮质/ 刺激，后部负责将自我相关的刺激放到一个暂时 楔前叶、次级前扣带回皮质(subgenual--ACC)、杏 的时间背景中，与过去的自我信息相联系。该研 仁核(amygdala)和腹侧纹状体(ventral striatum)同 究中的皮质中线结构泛指言语、空间、情感、记 时参与。内侧前额叶皮质在自我参照加工中的重 忆、面孔、动作和社会等功能脑区，在结构上包 要作用在张力等(2005)、Gillihan和Farah(2005)、 括腹内侧前额叶皮质、背内侧前额叶皮质、前扣 Moran,Heatherton和Kelley(2009)、Zhu,Zhang. 带回皮质、后扣带回皮质、中眼窝前额皮质(medial Fan和Han(2007)等研究中也得到了证实。还有研 orbital prefrontal cortex,.MOPC)、顶内侧皮质 究从更广的视角对fMRI和正电子发射扫描(PET) (medial parietal cortex,.MPC)和压后皮质 的自我研究进行了总结，Webber(20l1)分析了损 (retrosplenial cortex,RSC)等（关丽丽等，201l)。总 伤、神经功能紊乱和冥想(meditation)的研究认为， 之，皮质中线结构已普遍被认为是自我的主要神 意识状态下的各类自我主要定位于顶叶和和前额 经基础，但是：()皮质中线结构包含多个脑区， 叶，自我加工和内侧前额叶皮质的对应关系尤为 不同研究所指的脑区及范围大小不尽相同；(2)个 密切。总之，自我参照加工涉及各种各样的刺激 体所表征的大部分信息都是全脑表达的，Northoff 以及各个层面的认知过程，和内侧前额叶皮质的 等(2006)也强调，在分析皮质中线结构和自我参 激活有密切关系，其中扣带回皮质、纹状体和杏 照加工的关系时，他们并未在脑区之间划分出明 仁核等脑区分别在相应过程中得到不同的激活。 显的解剖学界线；(3)皮质中线结构并不局限于执 这说明自我的神经基础主要定位但并不局限于内 行自我和社会认知任务，还支持多种其他心理功 侧前额叶皮质，反过来验证了Northoff等人(2006) 能。因此，一些研究更倾向于把自我及其神经基 和Uddin等人(2007)以皮质中线结构笼统指代自 础看作某种“集合”（黄希庭，2006；Powell,Macrae, 我神经基础的合理性。 Cloutier,.Metcalfe,&Mitchell,20lO),而非孤立地 内侧前额叶皮质次成分在自我加工 2 以某种方式存在于某个特定脑区。 中的作用 1.2内侧前额叶皮质和自我参照加工 如何从皮质中线结构的众多脑区中进一步解 内侧前额叶皮质次成分在自我加工中的功能 析自我？认知神经科学家致力于探讨更为核心的 各有侧重。Schmitz和Johnson(2006)基于正常人 机制.Kelley等人(2002)较早运用功能性磁共振成 的研究认为，腹内侧前额叶皮质及周边系统主要 像(MRI)探测自我参照加工的神经基础，实验中 参与包含外部刺激在内的自我相关加工，背内侧 ?1994-2015 China Academic Journal Electronic Publishing House.All rights reserved.http://www.cnki.net854 心 理 科 学 进 展 第 20 卷 皮质在内的一些脑区结构, 是大脑静息态网络的 组成部分, 其显著特征是在静息状态(rest state)时 基线较高, 在执行目标指向行为时活动反而降 低。目前越来越多的研究者认为皮质中线结构在 自我相关的加工中具有重要作用(程蕾, 陈煦海, 黄希庭, 2011)。Uddin, Iacoboni, Lange 和 Keenan (2007)回顾了以往研究认为, 皮质中线结构是抽 象的、评价性的和整合性的自我和他人信息加工 的基础, 而自我和他人的身体表征主要是额顶镜 像神经元区(frontoparietal mirror-neuron areas)的 功能, 该研究中的皮质中线结构被界定为包含内 侧前额叶皮质、前扣带回皮质(anterior cingulated cortex, ACC)和楔前叶(precuneus)的脑区结构。 Northoff 等(2006)分析发现, 各类自我参照加工和 皮质中线结构激活均密切相关：皮质中线结构的 腹侧编码与表征自我的刺激有关; 背侧负责在与 自我无关的刺激的背景下重新评估与自我相关的 刺激; 后部负责将自我相关的刺激放到一个暂时 的时间背景中, 与过去的自我信息相联系。该研 究中的皮质中线结构泛指言语、空间、情感、记 忆、面孔、动作和社会等功能脑区, 在结构上包 括腹内侧前额叶皮质、背内侧前额叶皮质、前扣 带回皮质、后扣带回皮质、中眼窝前额皮质(medial orbital prefrontal cortex, MOPC)、顶内侧皮质 (medial parietal cortex, MPC) 和压后皮质 (retrosplenial cortex, RSC)等 (关丽丽等, 2011)。总 之, 皮质中线结构已普遍被认为是自我的主要神 经基础, 但是：(1)皮质中线结构包含多个脑区, 不同研究所指的脑区及范围大小不尽相同; (2)个 体所表征的大部分信息都是全脑表达的, Northoff 等(2006)也强调, 在分析皮质中线结构和自我参 照加工的关系时, 他们并未在脑区之间划分出明 显的解剖学界线; (3)皮质中线结构并不局限于执 行自我和社会认知任务, 还支持多种其他心理功 能。因此, 一些研究更倾向于把自我及其神经基 础看作某种“集合” (黄希庭, 2006; Powell, Macrae, Cloutier, Metcalfe, & Mitchell, 2010), 而非孤立地 以某种方式存在于某个特定脑区。 1.2 内侧前额叶皮质和自我参照加工 如何从皮质中线结构的众多脑区中进一步解 析自我？认知神经科学家致力于探讨更为核心的 机制。Kelley 等人(2002)较早运用功能性磁共振成 像(fMRI)探测自我参照加工的神经基础, 实验中 向被试呈现人格形容词, 分别判断是否适合描述 自我、他人或判断字形。结果发现, 和判断他人 或字形相比, 自我参照加工时内侧前额叶皮质和 后扣带回皮质(posterior cingulated cortex, PCC)激 活增强, 说明自我主要表征于这些脑区(杨帅, 黄 希庭, 王晓刚, 尹天子, 2012)。自此, 内侧前额叶 皮质引起了研究者的广泛关注, 被认为是加工自 我时的重要脑区而从皮质中线结构的众多脑区中 凸显出来。Zhu (2004)认为, 自我面孔识别发生在 右侧大脑, 自传记忆主要与海马有关, 情景记忆 提取主要与右侧前额叶有关, 而内侧前额叶的激 活仅仅是自我参照的表征(杨娟, 张庆林, 2010)。 Amodio 和 Frith (2006)的研究显示, 内侧前额叶 皮质和后扣带回皮质同时参与了自我评价和自我 知识(self-knowledge)的加工; Rameson, Satpute 和 Lieberman (2010)的研究发现, 内隐和外显自我信 息的加工主要是内侧前额叶皮质、后扣带回皮质/ 楔前叶、次级前扣带回皮质(subgenual-ACC)、杏 仁核(amygdala)和腹侧纹状体(ventral striatum)同 时参与。内侧前额叶皮质在自我参照加工中的重 要作用在张力等(2005)、Gillihan 和 Farah (2005)、 Moran, Heatherton 和 Kelley (2009)、Zhu, Zhang, Fan 和 Han (2007)等研究中也得到了证实。还有研 究从更广的视角对 fMRI 和正电子发射扫描(PET) 的自我研究进行了总结, Webber (2011)分析了损 伤、神经功能紊乱和冥想(meditation)的研究认为, 意识状态下的各类自我主要定位于顶叶和和前额 叶, 自我加工和内侧前额叶皮质的对应关系尤为 密切。总之, 自我参照加工涉及各种各样的刺激 以及各个层面的认知过程, 和内侧前额叶皮质的 激活有密切关系, 其中扣带回皮质、纹状体和杏 仁核等脑区分别在相应过程中得到不同的激活。 这说明自我的神经基础主要定位但并不局限于内 侧前额叶皮质, 反过来验证了 Northoff 等人(2006) 和 Uddin 等人(2007)以皮质中线结构笼统指代自 我神经基础的合理性。 2 内侧前额叶皮质次成分在自我加工 中的作用 内侧前额叶皮质次成分在自我加工中的功能 各有侧重。Schmitz 和 Johnson (2006)基于正常人 的研究认为, 腹内侧前额叶皮质及周边系统主要 参与包含外部刺激在内的自我相关加工, 背内侧