二、分析系统 (一)离子源 随分析对象和目的的不同,需要采用不同的离子源,其结构和性能对分析结 果有很大影响。以下是原子质谱分析中最常见的几种离子源。 1.高频火花电离源 高频火花电离源主要用于离子化无挥发性的无机试样,如金属、半导体、矿 物等。被分析试样直接(或与石墨混压)作为电离源的一个或两个电极。在真空 状态下,对试样电极和参考电极间施加约30kV脉冲高频电压,电极间发生的火 花放电使得电极上的试样蒸发并电离。 高频火花电离源的电离效率高,对不同的试样(包括气体、液体和固体), 其电离效率大致相同。因此,不必进行定量校正就能得到定性分析和半定量分析 数据。这种电离源主要缺点是能量分散较大,必须采用双聚焦分析器,但此种仪 器价格昂贵。 2.电感耦合等离子体电离源 自20世纪80年代初期以来,电感耦合等离子体(ICP)也应用于质谱分析 中作为电离源,电感耦合等离子体质谱( ICPMS)已经成为元素分析中最重要的 一项技术。有关ICP产生机理我们在原子发射光谱法已作介绍。在 ICPMS中 从ICP炬产生的金属正离子通过一个蠕动泵接口导入质量分析器。 与传统的电感耦合等离子体原子发射光谱( ICPAES)相比,从 ICPMS得到 的谱图非常简单,仅由各个元素的同位素峰组成。此分析技术对绝大多数元素而 言都很灵敏,选择性好,精度和准确度也相当好。所分析的试样一般为溶液。 3.辉光放电离子源二、分析系统 （一）离子源 随分析对象和目的的不同，需要采用不同的离子源，其结构和性能对分析结 果有很大影响。以下是原子质谱分析中最常见的几种离子源。 1．高频火花电离源 高频火花电离源主要用于离子化无挥发性的无机试样，如金属、半导体、矿 物等。被分析试样直接（或与石墨混压）作为电离源的一个或两个电极。在真空 状态下，对试样电极和参考电极间施加约 30kV 脉冲高频电压，电极间发生的火 花放电使得电极上的试样蒸发并电离。 高频火花电离源的电离效率高，对不同的试样（包括气体、液体和固体）， 其电离效率大致相同。因此，不必进行定量校正就能得到定性分析和半定量分析 数据。这种电离源主要缺点是能量分散较大，必须采用双聚焦分析器，但此种仪 器价格昂贵。 2．电感耦合等离子体电离源 自 20 世纪 80 年代初期以来，电感耦合等离子体（ICP）也应用于质谱分析 中作为电离源，电感耦合等离子体质谱（ICPMS）已经成为元素分析中最重要的 一项技术。有关 ICP 产生机理我们在原子发射光谱法已作介绍。在 ICPMS 中， 从 ICP 炬产生的金属正离子通过一个蠕动泵接口导入质量分析器。 与传统的电感耦合等离子体原子发射光谱（ICPAES）相比，从 ICPMS 得到 的谱图非常简单，仅由各个元素的同位素峰组成。此分析技术对绝大多数元素而 言都很灵敏，选择性好，精度和准确度也相当好。所分析的试样一般为溶液。 3．辉光放电离子源