IiAt)=kpe(iAt)+T,∑c(iAt)+ni+2-ei△D) At (11) i=0 式中，I(i△t)一熔化电流，e(i△t)一一熔化速度设定值与熔化速度实际值之差，K,一 比例增量，T一积分动作时间，T。一微分动作时间。 然后处理机将I值以模拟量（电压形式）输出，按恒流控制方式，改变大电流电源输出 电流的大小。后者是通过饱和电抗器电抗值的改变来改变供电电流值的，而电抗器直流回路 则由改变逆换流器的导流角来改变电抗值。（见图8） 这是…个双回路系统，进行无差调节，以保证给定熔化速度的再现。 这种组成的系统，由于分别按单变量控制，易于参量的调整，可望易于达到了定性能要 求。 电流反愤 大电流 h传感器 PID 电源 对 制 递度 运算 测量放 大器 微处理机 图8微处理机控制系统示意图 最佳控制的考虑 在现有基础上，拟仍取单变量控制的原则，按最佳控制的要求进行设计，以考察两种控 制方式的优劣。 根据时滞对象二阶随机线性高斯型的特点，可列出其差分方程如下， 1.ARMA(2,1)模型： yK+φ1yK-1+中2yK-2=6:uK-1+oK yk ∠yx+1-0,u. 得状态方程和量测方程， 丿Xx+:=中Xx+下Ux+x Zx=HXk+Vx (12) (8)r-(9)(8人H=o 2,ARMA(3.2)模型 yK+φ：yK-1+φ2yK-2+中syK-3=0:uK-1+02uK-2+nK 109“ ‘八 ，， · ‘八 ，，一六艺 · “ 八 ，二， ‘ 一 △ 全些〕 式 中 － 熔 化电 流 ， 八 － 熔 化速度设定 值 与熔 化速度实际 值 之 差 ， ， 比例增 一 鼠 ， ‘ － － 积 分 动作时 间 ， 。 － 微 分 动作时 间 。 然后 处理机将 值 以 模 拟量 电压 形式 输 出 ， 按 恒 流 控制方式 ， 改 变大 电流 电 源输 出 电流的 大小 。 后 者 是通过饱 和 电抗器 电抗值 的改 变来改 变供 电电流值 的 ， 而 电抗器 直 流回路 则 由改 变逆换 流器 的 导 流角来改 变电抗值 。 见 图 这 是 一个双 回路系统 ， 进 行无差 调节 ， 以 保 证 给定 熔 化速度的 再现 。 这 种组成的系统 ， 由于分别按 单变 量控 制 ， 易于 参 鼠的调整 ， 可望 易于 达 到 子定 性能 要 求 。 一 一 一 一 一 一 一 一 电流反该 传感器 徽处理机 一 一 一 图 微处 理 机 控 制系 统 示 意图 最佳 控 制的考虑 在现有基 础上 ， 拟仍取单变量 控 制 的原 则 ， 按 最佳 控 制 的 要求进 行 设计 ， 以 考察 两种控 制方式 的 优劣 。 根 据 时 滞对 象二阶 随 机线性高斯 型 的 特点 ， 可 列 出其差 分方 程如下 ， 徽型 ‘ 小 ‘ 一 中 一 一 初 令 ‘ 十 一 得状 态方程 和 量 测方程 ， 十 小 ，，， ‘ ‘ 、 式 中 币 二 戈一 小 、 、 一 ’ 、 一 小 ， ” 二 又小 又 。 ， ’‘ “ “ · ” ， 摸 型 、 小 一 小 一 中 一 。 一 一