Light Fig.Cross section diagram of Grimm glow discharge source. 1.Sample;2.Oring gaskets;3.Cathode block;4.Teflon washer;5,Evacuation Port;6.Anode; 7.Gas input;8.Window;9.Evacuation port 2;10.Emission layer(diagrammatic only). 图。格里姆放电灯的构造 1一样品：2一真空垫圈；3一阴极体；4一绝缘片；5一阳极区接真空泵的气口：6一阳极体：7一载气人口 (即充气口)：8一万英窗：9一阴极区接真空泵的气口；10一负辉光 这一新光源进行了研究，做了大量的工作。 1971年M.Dogan(3)等人测量了GDL的一些重要的物理参数。作出了在不同的载气 气氛和气压下，不同样品的V一I特性曲线。研究了阴极溅射率随样品成份、结构及放 电参数的变化规律。并提出了溅射率q与载气压强P有如下关系： q=c/√p C:常数 指出在放电区中电子、离子和中性原子之问不存在热平衡。同年H.Dieudonne(4)做了 一个特殊的样品，样品中心有一部分是放射性元素，将此样品用GDL激发、溅射后， 通过测量灯腔内及样品表面的辐射分布，来研究放电和溅射过程他发现样品腰射后会有 一些返回，但量不多。 1972年Boumans(5)通过实验发现约化藏射率Q(ugAˉ1S1)与放电电压V呈正比。 即Q=Ca(V-V。) Ce,V。为常数 他还提出可用GDL来分析金属合金的表层成份。广川吉之助(6)研究了Ni一Cu合金和碳 钢的藏射情况。通过金相的观察看到了GDL溅射斑没有明显的熔融状态出现。Jager和 B1um(7)用扫描电镜和双筒显微镜观察了溅射斑截面的形貌，发现样品的酸射量与晶体 的结构，取向和成份有关。特别当样品中有P6,A1等元素存在时，由于表面的这些元素 形成一层氧化膜而阻碍样品被射，使殲射班底凸凹不平。但经过较长的一段澱射时间后 被射斑底面变得比较平坦。这说明只要预燃时间足够长，就能达到稳定状态。F,B1“m 〔等研究了非导电粉未样品与铜粉混合挤压后用GDL放电溅射的过程，也发现有少许 粒子又重返样品表面的现象。J,E,Greenec9)用GDL研究了样品溅射的瞬态特性，发 现当放电达到稳定后，溅射沉积物的化学成份与原来样品中的成份是一致的。这就为作 144年 月 第 期 北 京 钢 铁 学 院 学 报 。 辉光放电光源技术在 光谱分析中应用 文献综述 李策辉 钱 振彭 鲁毅强 ‘分化教研室 》 文本综述了 池“ 辉光电光源 以 下简称 的发展过程， 基本原理 ， 放电灯 的结构 与 放电特性等 。 总结 了在发射光谱分析中用这种光源对钢，合金及岩石，矿物粉末样品 中各 元素的分析 介绍了一些分析工作者对灯体结构的改进以及这一技术在原子吸收 原子荧 光光谱分析及其它分析领域 中的应用 引 言 发射光谱 分析 自本生 · 基尔 霍夫开始 已有一百 多年 的历史 。 在这一百 多年 中随着科 学技术和工业生 产的发展 ， 人们所 要分析的 样品 种类和 含量 范 围越 来越广 泛 ， 对分析的 要求也越来越 多 。 这就促使光谱 分析工 作者不 断地改进 原有的分析设备 ， 技术和方法 ， 创造 出更 多 ， 更新的分析仪 器和 手段 。 辉光放 电灯 是 年 由 研 制 出的 一种低气压反常辉光放电源 。 〔 ‘ · “ 〕 由于它具 有受基体和 共存元素午扰小 ， 谱线 自吸收少 ， 稳定性高 ， 工 作 曲线线 性范 围大等 突 出的特性及设备简单 ， 成本低等优 点 ， 显示 出它 在 高含量与金属表层逐 层分析方面 的优越 性 ， 同时也显示 了它 在工 业生 产 中推广应用 的潜 力 。 今后这项技术必将得到更进一步的重 视与发展 。 辉 光放 电灯 结构 、 特性和放 电原理的研究 结 构与特性 的研究 年 〔 ‘ · “ 〕 发 明 了这 种结构特殊的辉光放 电灯 构 造 见 图 ， 并 建 立 了 一 套用 辉光光源 分析金属 合金 固体块样的方法 。 由于这种新型的光源在许 多 方 面 比其它 光源有 明显的优 点 。 一 开始就 引起 了人们极大的兴趣 。 许多光谱 分析工作者对 一 一 收稿