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与常规的氯化物输运外延(VPE)相比,M0CVD具有下列一系列优点: (1)、适用范围广泛,几乎可以生长所有化合物及合金半导体; (2)、非常适合于生长各种异质结构材料 (3)、可以生长超薄外延层,并能获得很陡的界面过渡; (4)、生长易于控制; (5)、可以生长纯度很高的材料; (6)、外延层大面积均匀性良好; (7)、可以进行大规模生产 M0CVD与另一种新型外延技术一分子束外延(MB)相比,不仅 具有MB所能进行的超薄层、陡界面外延生长的能力,而且还具 有设备简单、操作方便、便于大规模生产等特点,因而比MBE具 有更大的实用价值。与常规的氯化物输运外延(VPE)相比,MOCVD具有下列一系列优点: (1)、适用范围广泛,几乎可以生长所有化合物及合金半导体; (2)、非常适合于生长各种异质结构材料; (3)、可以生长超薄外延层,并能获得很陡的界面过渡; (4)、生长易于控制; (5)、可以生长纯度很高的材料; (6)、外延层大面积均匀性良好; (7)、可以进行大规模生产。 MOCVD与另一种新型外延技术--分子束外延(MBE)相比,不仅 具有MBE所能进行的超薄层、陡界面外延生长的能力,而且还具 有设备简单、操作方便、便于大规模生产等特点,因而比MBE具 有更大的实用价值
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