3.2.1、超高真空的必要性 为什么必需要采用超高真空呢？ 首先，要分析的低能电子信号很容易被残余气体分子所散射，使得谱 的总信号减弱，所以必须要真空技术来减小残 气体分字的浓度，只 有程基条件华，低麓电字子能获得定够袋的李玛留，度而朵 被散射损失撢。 基次，一更为重要的是超高真空环境是表画分析技术本身的表画灵敏性 所必须的。.在10-6mbar高真空下，大约1秒钟就会有一个单层的气体 吸附在固体表面，这与典型的谱图采集时间相比就太短了。显然在分 称过程中就需要超高真空境来保持祥品表面的清洁。 表面灵敏分析技术对样品表画清洁度的要求比其它分析技术要高得多。 对表面杂质来讲当前表面分菥方法的检测限约为0.1%单层，但有时 很小的杂质浓度也会引起可观的影响。因此清洁表面的制备和维持是 十分必要的。，表面分析需要在超高真空中(U)进行，才能保证表面 不会在分析过程中被污染。 超高真空的性质： 气压p=108-1011torr平均自由程入=~104-107m.单层形成 时间t=~102-105s 中园辩学技术大学 niversity of Science and Technology of China3.2.1、超高真空的必要性 为什么必需要采用超高真空呢？  首先，要分析的低能电子信号很容易被残余气体分子所散射，使得谱 的总信号减弱，所以必须要真空技术来减小残余气体分子的浓度，只 有在超高真空条件下，低能电子才能获得足够长的平均自由程，而不 被散射损失掉。  其次，更为重要的是超高真空环境是表面分析技术本身的表面灵敏性 所必须的。在10-6mbar高真空下，大约1秒钟就会有一个单层的气体 吸附在固体表面，这与典型的谱图采集时间相比就太短了。显然在分 析过程中就需要超高真空环境来保持样品表面的清洁。  表面灵敏分析技术对样品表面清洁度的要求比其它分析技术要高得多。 对表面杂质来讲当前表面分析方法的检测限约为0.1%单层，但有时 很小的杂质浓度也会引起可观的影响。因此清洁表面的制备和维持是 十分必要的。表面分析需要在超高真空中(UHV)进行，才能保证表面 不会在分析过程中被污染。  超高真空的性质： 气压 p = 10-8 – 10-11 torr. 平均自由程 = ~104 – 107 m. 单层形成 时间 t = ~102 – 105 s