多尺度相关显微分析的必要性 O TONG 以电沉积金属镍中的非正常晶粒长大为例： 1.晶粒尺寸(OM) {100} 2.非正常晶粒长大特征(SEM) 晶面 3.晶界特征(TEM) EBSD 光学显微镜 SEM/EBSD TEM/STEM/EDS √晶粒尺寸分布 √晶粒取向分布 √晶界/晶粒内成分分布 50μm :10μm 1μm Ni K Ni K Ni KI S Ko 特征定位 200 Sulfur rich phase School of Materials Science and Engineering材料科学与工程学院 School of Materials Science and Engineering 以电沉积金属镍中的非正常晶粒长大为例： 1. 晶粒尺寸（OM） 2. 非正常晶粒长大特征（SEM） 3. 晶界特征（TEM） 1 μm 光学显微镜  晶粒尺寸分布 50 μm 10 μm TEM/STEM/EDS  晶界/晶粒内成分分布 特征定位 SEM/EBSD  晶粒取向分布 Ni_50_500°C_1 h, matrix grain size 1.24µm large grain size 14.96 µm Ni_50_500°C_10 h, matrix grain size 2.38µm large grain size 181.88µm EBSD {100} 晶面 Sulfur-rich phase 多尺度相关显微分析的必要性