CV法的基本原理和过程 化学气相沉积是利用气态物质在一固体材料表面上进行化学反应,生成固态 沉积物的过程。CVD在本质上是一种材料的合成过程,其主要步骤有: (1)反应剂被携带气体进入反应器后,在基体材料表面附近形成边界后,然 后在主气流中的反应剂越过边界扩散型材料表面。 (2)反应剂被吸附在基体材料表面,并进行化学反应。 (3)化学反应生成的固态物质,即所需要的沉积物,在基体材料表面成核, 生长成薄膜。 (4)反应后的气相产物离开基体材料表面,扩散回边界层,并随输运气体排 出反应室。 反气棒入 加热器 長应室 尾气出口 ÷ 村架和衬底 图511化学气相沉积法原理示意图CVD法的基本原理和过程 化学气相沉积是利用气态物质在一固体材料表面上进行化学反应，生成固态 沉积物的过程。CVD在本质上是一种材料的合成过程，其主要步骤有： （1）反应剂被携带气体进入反应器后，在基体材料表面附近形成边界后，然 后在主气流中的反应剂越过边界扩散型材料表面。 （2）反应剂被吸附在基体材料表面，并进行化学反应。 （3）化学反应生成的固态物质，即所需要的沉积物，在基体材料表面成核， 生长成薄膜。 （4）反应后的气相产物离开基体材料表面，扩散回边界层，并随输运气体排 出反应室