●薄膜淀积 半导体器件工艺中的“薄膜”是一种固态薄 膜,薄膜的种类和制备方法在第四章中已作过简 单介绍。 薄膜淀积是指仼何在硅片衬底上物理淀积 层膜的工艺,属于薄膜制造的一种工艺,所淀积 的薄膜可以是导体、绝缘材料或者半导体材料。 比如二氧化硅(sO2)、氮化硅(Si3N4)、多 晶硅以及金属(Cu、W) 半导体制造技术 by Michael Quirk and Julian Serda 电信学院微电子教研室电信学院微电子教研室 半导体制造技术 by Michael Quirk and Julian Serda • 薄膜淀积 半导体器件工艺中的“薄膜”是一种固态薄 膜，薄膜的种类和制备方法在第四章中已作过简 单介绍。 薄膜淀积是指任何在硅片衬底上物理淀积一 层膜的工艺，属于薄膜制造的一种工艺，所淀积 的薄膜可以是导体、绝缘材料或者半导体材料。 比如二氧化硅（SiO2）、氮化硅（Si3N4）、多 晶硅以及金属（Cu、W）