光刻利用光刻胶的感光性和耐蚀性,在各种薄膜 上复印并刻蚀出与掩摸版完全对应的几何图形 以实现选择性掺杂和金属膜布线的目的。是一种 非常精细的表面加工技术,在器件生产过程中广 泛应用,因此光刻精度和质量将直接影响器件的 性能指标,同时也是影响制造成品率和可靠性的 重要因素。光刻过程如图47所示。 光刻制程 正胶工艺-开孔 有薄膜的晶圆 或 负胶工艺一留岛光刻 利用光刻胶的感光性和耐蚀性，在各种薄膜 上复印并刻蚀出与掩摸版完全对应的几何图形。 以实现选择性掺杂和金属膜布线的目的。是一种 非常精细的表面加工技术，在器件生产过程中广 泛应用，因此光刻精度和质量将直接影响器件的 性能指标，同时也是影响制造成品率和可靠性的 重要因素。光刻过程如图4.7所示。 有薄膜的晶圆 光刻制程 正胶工艺 开孔 - 或 负胶工艺 留岛 -