5-2-2硅外延生长设备 ■四部分组成: 氢气净化系统、气体输运及净化系统、加热设 备和反应室 根据反应室的结构,由水平式和立式,后者 又分为平板式和桶式 加热反应器,提高温度,有利于硅的淀积 加热方式有高频感应加热和红外辐射加热9 ◼ 四部分组成： 氢气净化系统、气体输运及净化系统、加热设 备和反应室 ◼ 根据反应室的结构，由水平式和立式，后者 又分为平板式和桶式 ◼ 加热反应器，提高温度，有利于硅的淀积， 加热方式有高频感应加热和红外辐射加热。 5－2－2 硅外延生长设备