点击下载:电子科技大学:《集成电子学 Integrated Electronics》课程教学资源(课件讲稿)第二章 缩小到纳米尺寸的CMOS器件面临的挑战
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UV light Reticle field size 20mm,15mm, 4 die per field 5:1 reduction lens Image exposure on wafer Serpentine 1/5 of reticle field stepping pattern 4 mm.3 mm, 4 die per exposure Wafer Stepper exposure field
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