.278 北京科技大学学报 第30卷 氢前被还原为金属h,在继续向负电位扫描的过 (图3)表明，除基底中的Si、Au峰外，还观察到明显 程中，一0.8V左右出现的峰A为H在刚刚形成的 的Rh峰，这表明沉积前后电极表面的形貌变化是 Rh表面的单层吸附峰.随后，从一0.9V开始，H 由于金表面上覆盖了一层R造成的.从能谱数据 开始在电极表面大量吸附，并有H2气放出，而在正 中各组成成分的峰高来看，Rh的量很少，这一方面 向回扫过程中，一0,28V左右出现的峰A'为H的 原因是Rh的沉积层很薄，另外也是因为EDX的分 脱附峰，它与峰A相对应，这一过程，和玻碳电极的 析深度比较大，为m级，能够穿透Rh层和Au层 循环伏安响应过程类似].因此，可以将沉积电位 反映出基底的信息，而相对于Si基底来说，h含量 选择在一0.4V即可以将溶液中的Rh3+还原为金 是很低的 属Rh,同时又可以防止析氢过程， 2.2SEM及EDX表征 图2给出了电化学沉积前后的金电极的SEM AU 照片，沉积前的Au表面表现出真空溅射金膜所特 有的形貌，可以清楚地观察到直径约为50~100nm 的金岛，见图2(a),当在1 mmol .L-1RhCl3十 Au 0.1molL-1KC1溶液中以-0.4V为沉积电位沉积 681012 Rh300s后（图2(b),电极表面的形貌发生了显著 Elev 变化，即：沉积后的表面颗粒的粒径更小，且分布均 匀.对沉积后的样品表面采集的EDX能谱数据 图3电化学沉积Rh后Au/Rh电极的EDX谱.电化学沉积在1 mmol +L-1 RhCls十0.1mol+L-1KCl中进行，沉积电位为-0.4V, a 沉积时间300： Fig.3 EDX spectrum of Au/Rh electrode.The Rh film was ob- tained by electrochemical deposition at -0.4 V for 300s in Immol. L RhCls+0.1mol-LKCl 2.3CV表征 为了进一步证实金表面沉积了一层致密的R弘， 在H2S04溶液中对Rh进行电化学表征.图4(a)为 空白Au电极在0.5molL1H2S04中的CV响应 曲线，可以看出，图中只有充放电信号，图4(b)为 200nm 在一0.4V下沉积Rh300s后Au电极的CV响应曲 (b) 200 100 0 (a -100 -200 (b) -300 400 -500 -600 -70904-020020.40.60.8 电位N(SCE) 图4空白的Au电极(a)和沉积Rh后的Au电极(b)在0.5M 图2(a)空白Am电极和(b)电化学沉积Rh后Au/Rh电极的 Hs0:中的CV曲线.电化学沉积在1 mmol +L-1 RhCls-十0.1mol SEM照片，电化学沉积在1 mmol L-1RhCs十0.1molL-1KC LKC1中进行，沉积电位一0.4V,沉积时间300s 中进行，沉积电位为一0.4V Fig.4 Cyclic Voltammograms of bare Au electrode (a)and Au/Rh Fig.2 SEM images of bare Au electrode (a)and Au/Rh electrode electrode (b)in 0.5 M H2S0.The Rh film was obtained by electro- (b).The Rh film was obtained by electrochemical deposition at- chemical deposition at -0.4V for 300s in 1m mol.L RhCls+0.1 0.4 V in 1mmolL RhCls+0.1 mol-LKCl mol +L KCI氢前被还原为金属 Rh．在继续向负电位扫描的过 程中‚—0∙8V 左右出现的峰 A 为 H ＋在刚刚形成的 Rh 表面的单层吸附峰．随后‚从—0∙9V 开始‚H ＋ 开始在电极表面大量吸附‚并有 H2 气放出．而在正 向回扫过程中‚—0∙28V 左右出现的峰 A′为 H 的 脱附峰‚它与峰 A 相对应．这一过程‚和玻碳电极的 循环伏安响应过程类似［18］．因此‚可以将沉积电位 选择在—0∙4V 即可以将溶液中的 Rh 3＋还原为金 属 Rh‚同时又可以防止析氢过程． 图2 （a）空白 Au 电极和（b）电化学沉积 Rh 后 Au／Rh 电极的 SEM 照片‚电化学沉积在1mmol·L —1 RhCl3＋0∙1mol·L —1 KCl 中进行‚沉积电位为—0∙4V Fig．2 SEM images of bare Au electrode （a） and Au／Rh electrode （b）．The Rh film was obtained by electrochemical deposition at — 0∙4V in1mmol·L —1RhCl3＋0∙1mol·L —1 KCl 2∙2 SEM及 EDX 表征 图2给出了电化学沉积前后的金电极的 SEM 照片．沉积前的 Au 表面表现出真空溅射金膜所特 有的形貌‚可以清楚地观察到直径约为50～100nm 的金岛‚见图 2（a）．当在 1mmol·L —1 RhCl3＋ 0∙1mol·L —1 KCl 溶液中以—0∙4V为沉积电位沉积 Rh300s 后（图2（b））‚电极表面的形貌发生了显著 变化‚即：沉积后的表面颗粒的粒径更小‚且分布均 匀．对沉积后的样品表面采集的 EDX 能谱数据 （图3）表明‚除基底中的 Si、Au 峰外‚还观察到明显 的 Rh 峰‚这表明沉积前后电极表面的形貌变化是 由于金表面上覆盖了一层 Rh 造成的．从能谱数据 中各组成成分的峰高来看‚Rh 的量很少‚这一方面 原因是 Rh 的沉积层很薄‚另外也是因为 EDX 的分 析深度比较大‚为μm 级‚能够穿透 Rh 层和 Au 层 反映出基底的信息‚而相对于 Si 基底来说‚Rh 含量 是很低的． 图3 电化学沉积 Rh 后 Au／Rh 电极的 EDX 谱．电化学沉积在1 mmol·L —1RhCl3＋0∙1mol·L —1KCl 中进行‚沉积电位为—0∙4V‚ 沉积时间300s Fig．3 EDX spectrum of Au／Rh electrode．The Rh film was ob￾tained by electrochemical deposition at —0∙4V for300s in1mmol· L —1RhCl3＋0∙1mol·L —1 KCl 图4 空白的 Au 电极（a）和沉积 Rh 后的 Au 电极（b）在0∙5M H2SO4中的 CV 曲线．电化学沉积在1mmol·L —1RhCl3＋0∙1mol ·L —1 KCl 中进行‚沉积电位—0∙4V‚沉积时间300s Fig．4 Cyclic Voltammograms of bare Au electrode （a） and Au／Rh electrode （b） in0∙5M H2SO4．The Rh film was obtained by electro￾chemical deposition at —0∙4V for300s in1m mol·L —1RhCl3＋0∙1 mol·L —1 KCl 2∙3 CV 表征 为了进一步证实金表面沉积了一层致密的 Rh‚ 在 H2SO4 溶液中对 Rh 进行电化学表征．图4（a）为 空白 Au 电极在0∙5mol·L —1 H2SO4 中的 CV 响应 曲线．可以看出‚图中只有充放电信号．图4（b）为 在—0∙4V 下沉积 Rh300s 后 Au 电极的CV 响应曲 ·278· 北 京 科 技 大 学 学 报 第30卷