离子镀时发生的微观效应(续) (1)溅射效应 离子轰击会引发表面原子的溅射,尤其是会优先除 去结合松散的原子,使吸附的气体杂质从基片表面脱附 而清洁化 (2)在薄膜中诱发缺陷 轰击离子向薄膜中的晶格原子传递大量的能量,使 其迁移到间隙位置上,在薄膜表层形成高密度的点缺陷, 有时甚至使表面的结晶相转变为非晶相 (3)薄膜形貌与成分发生变化 离子轰击后,会增加基底和薄膜的表面粗糙度;轰击 会造成较小的晶粒、促进较薄厚度的薄膜形成连续薄膜 形成亚稳态的结构,以及形成非化学计量比的化合物 等。如在放电时引入活性气体,则可使活性粒子进入薄 膜中,形成诸如碳化物、氮化物等。（1）溅射效应 离子轰击会引发表面原子的溅射，尤其是会优先除 去结合松散的原子，使吸附的气体杂质从基片表面脱附 而清洁化 （2）在薄膜中诱发缺陷 轰击离子向薄膜中的晶格原子传递大量的能量，使 其迁移到间隙位置上,在薄膜表层形成高密度的点缺陷, 有时甚至使表面的结晶相转变为非晶相 （3）薄膜形貌与成分发生变化 离子轰击后,会增加基底和薄膜的表面粗糙度；轰击 会造成较小的晶粒、促进较薄厚度的薄膜形成连续薄膜 ；形成亚稳态的结构，以及形成非化学计量比的化合物 等。如在放电时引入活性气体，则可使活性粒子进入薄 膜中，形成诸如碳化物、氮化物等。 离子镀时发生的微观效应（续）