结果一致。 7.6.2化学状态的鉴定 原子化学环境的变化对ⅹPS和AES中测量的电子能量都有影响,使之偏离标准值 产生所谓的化学位移。根据化学位移的数值,可以给出待测样品的化学状态的信息 图7.6.3、7.6.4、7.6.5是NisB2合金表面Ni2pM2、0ls以及P2p的XPS图谱。对 清洁的表面,表面N和P均处于元素态,只有一个峰(图7.6.3a、图7.6.4a)。当样 品在403K、1bar的氧气中处理一小时后,P在结合能为133.7eV处出现了一个新的 峰(图7.6.4b),相应地在Ols谱线上结合能为5324eV处也出现了一个新峰(图 7.6.5b)。谱线经分峰、拟合后,得到O与P的原子比约为25,表明该条件氧化处理 N2p32 O1s 852.7 531.5 8540 856.1 结合能(eV) 图7.6.5NiP合金的 oIs XPS谱(a、b同左 图7.6.3Ni-P合金的Ni2 pay XPS谱 a清洁表面: b baro2、403K氧化1小时 636I 276I 276L 18L 结合能(eV 图76.4N-P合金的P2pXPS谱(a、b同上图) 日7.6.6氧吸附对表面B和Ni的影响 0Pa·s 后,样品表面有P2O3生成。N12py 谱(图7.6.3b)表明样品表面存在着两种状态的镍:金属态的镍(E=8527eV) 和较高氧化态的镍(Eb=856leV)。结合UPS的实验结果,可以证实这个较高氧化结果一致。 7.6.2 化学状态的鉴定 原子化学环境的变化对 XPS 和 AES 中测量的电子能量都有影响，使之偏离标准值 产生所谓的化学位移。根据化学位移的数值，可以给出待测样品的化学状态的信息。 图 7.6.3、7.6.4、7.6.5 是 Ni80B20 合金表面 Ni2p3/2、O1s 以及 P2p 的 XPS 图谱。对 清洁的表面，表面 Ni 和 P 均处于元素态，只有一个峰（图 7.6.3a、图 7.6.4a）。当样 品在 403K、1bar 的氧气中处理一小时后， P 在结合能为 133.7eV 处出现了一个新的 峰（图 7.6.4b），相应地在 O1s 谱线上结合能为 532.4eV 处也出现了一个新峰（图 7.6.5b）。谱线经分峰、拟合后，得到 O 与 P 的原子比约为 2.5 ，表明该条件氧化处理 后，样品表面有 P2O5 生成。 Ni 2p3 2 图 谱（图 7.6.3b）表明样品表面存在着两种状态的镍：金属态的镍（ Eb = 852.7eV ） 和较高氧化态的镍（ Eb = 856.1eV ）。结合 UPS 的实验结果，可以证实这个较高氧化 图 7.6.6 氧吸附对表面 B 和 Ni 的影响 1L=1.33×10-4 Pa·s 图 7.6.3 Ni-P 合金的 Ni 2p3/2 XPS 谱 a 清洁表面； b 1barO2、403K 氧化 1 小时 图 7.6.5 Ni-P 合金的 O 1s XPS 谱(a、b 同左) 图 7 .6.4 Ni-P 合金的 P 2pXPS 谱(a、b 同上图)