苏州大学：电子信息学院《集成电路版图设计》课程教学大纲

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第一节引言 硅平面工艺是制造 MOS IC的基础。利用不同的 掩膜版,可以获得不同功能的集成电路。因此, 版图设计成为开发新品种和制造合格集成电路的关键。 1、手工设计 人工设计和绘制版图,有利于充分利用芯片面 积,并能满足多种电路性能要求。但是效率低、 周期长、容易出错,特别是不能设计规模很大的 电路版图。因此,该方法多用于随机格式的、产 量较大的MSI和LSI或单元库的建立

PN结和MOS晶体管结构 IC制造主要基本工艺 N阱CMOS简化工艺及工艺的改进 CMOS反相器电路结构及版图 无源器件：R、C、L 版图设计规则

北方工业大学：微电子科学与工程（集成电路设计与测试）《集成电路CAD与版图技术》课程教学大纲

北京大学：《集成电路原理与设计 Principle of Integrated Circuits》课程电子教案（集成电路设计实习）单元实验3（第2次课）模拟电路单元实验——差分放大器版图设计

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《高中历史》全程设计同步配套教学课件（必修上册）第4单元 明清中国版图的奠定与面临的挑战_第15课 明至清中叶的经济与文化

《高中历史》全程设计同步配套教学课件（必修上册）第4单元 明清中国版图的奠定与面临的挑战_第14课 清朝前中期的鼎盛与危机

一、服装服饰设计图的种类 1。效果图 2。款式图 3。裁剪图 4。排版图