相关文档

清华大学:《VLSI设计导论》第五章 版图设计技术

第一节引言 硅平面工艺是制造 MOS IC的基础。利用不同的 掩膜版,可以获得不同功能的集成电路。因此, 版图设计成为开发新品种和制造合格集成电路的关键。 1、手工设计 人工设计和绘制版图,有利于充分利用芯片面 积,并能满足多种电路性能要求。但是效率低、 周期长、容易出错,特别是不能设计规模很大的 电路版图。因此,该方法多用于随机格式的、产 量较大的MSI和LSI或单元库的建立。
团购合买资源类别:文库,文档格式:PPT,文档页数:43,文件大小:313.5KB
点击进入文档下载页(PPT格式)
点击下载(PPT格式)

浏览记录