1.1 电磁场的基本方程 1.2 波动方程与标量波 1.3 矢量波及其偏振态描述 1.4 平面光波在各向同性介质界面上的反射和折射

光线轨迹:限制在子午平面内传播的周期曲线。轨迹曲线在 光纤端面投影线仍是过园心的直线,但一般不与纤壁相交。 广义折射定律:m(r)cos0(r)=K常数) 局部数值孔径:定义局部数值孔径NA(r)为入射点媒质折射率 与该点最大入射角的正弦值之积,即

4.1 光发射机 4.2 光接收机 4.3 线路编码

3.1光源 3.2光检测器 3.3光无源器件

8.1光复用技术的基本概念 8.2光时分复用技术 8.3密集波分复用技术 8.4密集波分复用系统的非线性串扰

一.相控阵列雷达 二.全息术 三.光信息处理 四.非线性光学

4.1 衍射现象、惠更斯—菲涅耳原理 4.2 单缝的夫琅禾费衍射、半波带法 4.3 光栅衍射 4.4 光学仪器的分辨本领 4.5 X射线的衍射

设凹镜是由xOy面上曲线L:y=y(x)(y>0)绕x轴旋转而成, 光源在原点.确定函数y(x)所满足的微分方程 在L上任取一点M(x,y),作L的切线交x轴于A.点O发出的 光线经点M反射后是一条平行于x轴射线.由光学及几何原理 可以证明OA=OM

随着光电技术的发展,以电磁波(光波或 微波)作为载波传输测距信号测量两点间 距离的光电测距技术已成为距离测量的 主要手段。电磁波测距仪测距具有工作 轻便、测距精度高、测程远、作业效率 高和不受地形影响等优点

2.1 真空热蒸发镀膜技术 2.1.1 真空热蒸发镀膜的原理 2.1.2 真空热蒸发镀膜的方式及特点 2.2 溅射镀膜技术 2.2.1 气体放电原理 2.2.2 溅射现象 2.2.3 溅射镀膜技术分类及特点 2.3 化学气相沉积技术 2.3.1 CVD原理 2.3.2 CVD技术种类及特点 2.4 光刻技术 2.4.1 光刻原理 2.4.2 光刻工艺概述 2.4.2 光刻胶 2.4.3 对位和曝光 2.4.4 显影 2.5 刻蚀 Eching 2.5.1 刻蚀工艺的品质因数 2.5.2 湿法刻蚀 2.5.3 干法刻蚀