第一节 概述 第二节 分析小信号放大器的有关知识 第三节 晶体管高频小信号等效电路 第四节 晶体管谐振放大器 第五节 小信号谐振放大器的稳定性

绪论 第一章 量子力学基础知识 第二章 原子的结构和性质 第三章 共价键和双原子分子的结构和性质 第四章 分子的对称性 第五章 多原子分子的结构和性质 第六章 配位化合物的结构和性质 第七章 次级键及超分子的结构化学 第八章 晶体的点阵结构和晶体的性质 第九章 金属的结构和性质 第十章 离子化合物的结构化学

● 了解正交偏光镜的装置及光学特点 ● 了解几种常用补色器特点及适用范围 ● 掌握消光、消色及补色法则的概念 ● 掌握正交偏光镜间主要光学性质的观察与测定方法：

10.6.1 晶体管的基本结构 10.6.2 电流分配和电流放大作用 10.6.3 特性曲线 10.6.4 主要参数

 定义：HD, IM, 交调点  MOS管的非线性 单端放大器 差分放大器  双极型晶体管的非线性  负反馈能够减小非线性  运算放大器的非线性  其他非线性和准则

实习一 晶体的目估投影与宏观对称观察 实习二 晶体定向及目估结晶符号 实习四 认识单形 实习四 聚形分析 实习五 矿物的形态及物理性质 实习六 自然元素矿物大类 实习七 硫化物及其类似化合物矿物大类 实习八 氧化物及氢氧化物矿物大类 实习九 岛状及环状硅酸盐矿物亚类 实习十 链状硅酸盐矿物亚类 实习十一 层状硅酸盐矿物亚类 实习十二 架状硅酸盐矿物亚类 实习十三 其他含氧盐矿物 实习十四 卤化物矿物大类

第一章. X射线的性质 1 概述 2 X射线的性质 3 X射线的产生 4 X射线与物质的相互作用 5 物质对X射线的吸收 第三章. 晶体对X射线的衍射 1 衍射的概念 2 劳埃方程式 3 布拉格方程式 4 两种方程式的统一 5 布拉格方程式的意义 6 布拉格方程式和衍射方向 7 能检测到的面网间距范围

本章学习要求： 1. 了解原子核外电子运动的基本特征，明确量子数的取值规律，了解原子轨道和电子云的空间分布。 2. 掌握核外电子排布的一般规律及其与元素周期表的关系。 3. 了解化学键的本质及键参数的意义。 4. 了解杂化轨道理论的要点，能应用该理论判断常见分子的空间构型、极性等。 5. 了解分子间作用力以及晶体结构与物质物理性质的关系。 目录： ➢ 5.1 原子结构的近代概念 ➢ 5.2 多电子原子的电子分布方式和周期系 ➢ 5.3 化学键与分子间相互作用力 ➢ 5.4 晶体结构

概述本章将介绍基本芯片生产工艺的概况, 主要阐述4中最基本的平面制造工艺,分别是: 薄膜制备工艺掺杂工艺光刻工艺热处理工艺 薄膜制备是在晶体表面形成薄膜的加工工艺。 图4.4是MOS晶体管的剖面图,可以看出上面有 钝化层(Si3N4、Al2O3)、金属膜(AI)、氧化层(SiO2) 制备这些薄膜的材料有:半导体材料(Si、 GaAs等),金属材料(Au、A等),无机绝缘 材料(SiO2、Si3N4、Al2O3等),半绝缘材料 (多晶硅、非晶硅等)

2.1 放大的概念和放大电路的主要性能指标 2.2 基本共射放大电路的工作原理 2.3 放大电路的分析方法 2.4 放大电路工作点的稳定 2.5 晶体管放大电路的三种基本接法 2.6 晶体管放大电路的派生电路 2.7 场效应管放大电路