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第一节 概述 第二节 分析小信号放大器的有关知识 第三节 晶体管高频小信号等效电路 第四节 晶体管谐振放大器 第五节 小信号谐振放大器的稳定性
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绪论 第一章 量子力学基础知识 第二章 原子的结构和性质 第三章 共价键和双原子分子的结构和性质 第四章 分子的对称性 第五章 多原子分子的结构和性质 第六章 配位化合物的结构和性质 第七章 次级键及超分子的结构化学 第八章 晶体的点阵结构和晶体的性质 第九章 金属的结构和性质 第十章 离子化合物的结构化学
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● 了解正交偏光镜的装置及光学特点 ● 了解几种常用补色器特点及适用范围 ● 掌握消光、消色及补色法则的概念 ● 掌握正交偏光镜间主要光学性质的观察与测定方法:
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10.6.1 晶体管的基本结构 10.6.2 电流分配和电流放大作用 10.6.3 特性曲线 10.6.4 主要参数
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 定义:HD, IM, 交调点  MOS管的非线性 单端放大器 差分放大器  双极型晶体管的非线性  负反馈能够减小非线性  运算放大器的非线性  其他非线性和准则
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实习一 晶体的目估投影与宏观对称观察 实习二 晶体定向及目估结晶符号 实习四 认识单形 实习四 聚形分析 实习五 矿物的形态及物理性质 实习六 自然元素矿物大类 实习七 硫化物及其类似化合物矿物大类 实习八 氧化物及氢氧化物矿物大类 实习九 岛状及环状硅酸盐矿物亚类 实习十 链状硅酸盐矿物亚类 实习十一 层状硅酸盐矿物亚类 实习十二 架状硅酸盐矿物亚类 实习十三 其他含氧盐矿物 实习十四 卤化物矿物大类
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第一章. X射线的性质 1 概述 2 X射线的性质 3 X射线的产生 4 X射线与物质的相互作用 5 物质对X射线的吸收 第三章. 晶体对X射线的衍射 1 衍射的概念 2 劳埃方程式 3 布拉格方程式 4 两种方程式的统一 5 布拉格方程式的意义 6 布拉格方程式和衍射方向 7 能检测到的面网间距范围
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本章学习要求: 1. 了解原子核外电子运动的基本特征,明确量子数的取值规律,了解原子轨道和电子云的空间分布。 2. 掌握核外电子排布的一般规律及其与元素周期表的关系。 3. 了解化学键的本质及键参数的意义。 4. 了解杂化轨道理论的要点,能应用该理论判断常见分子的空间构型、极性等。 5. 了解分子间作用力以及晶体结构与物质物理性质的关系。 目录: ➢ 5.1 原子结构的近代概念 ➢ 5.2 多电子原子的电子分布方式和周期系 ➢ 5.3 化学键与分子间相互作用力 ➢ 5.4 晶体结构
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概述本章将介绍基本芯片生产工艺的概况, 主要阐述4中最基本的平面制造工艺,分别是: 薄膜制备工艺掺杂工艺光刻工艺热处理工艺 薄膜制备是在晶体表面形成薄膜的加工工艺。 图4.4是MOS晶体管的剖面图,可以看出上面有 钝化层(Si3N4、Al2O3)、金属膜(AI)、氧化层(SiO2) 制备这些薄膜的材料有:半导体材料(Si、 GaAs等),金属材料(Au、A等),无机绝缘 材料(SiO2、Si3N4、Al2O3等),半绝缘材料 (多晶硅、非晶硅等)
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2.1 放大的概念和放大电路的主要性能指标 2.2 基本共射放大电路的工作原理 2.3 放大电路的分析方法 2.4 放大电路工作点的稳定 2.5 晶体管放大电路的三种基本接法 2.6 晶体管放大电路的派生电路 2.7 场效应管放大电路
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