第一部分 光源和光发射机 一、半导体中的光的发射和激射原理 二、半导体发光二极管（LED） 三、半导体激光二极管（LD） 四、数字光发射机 第二部分 光检测器及光接收机 一、光检测器原理 二、PIN 三、APD 四、数字光接收机

4.1 光发射机 4.2 光接收机 4.3 线路编码

4.1 光发射机 4.2 光接收机 4.3 线路编码

4.1 光发射机 4.2 光接收机 4.3 线路编码

第4章光端机 4.1光发射机 4.2光接收机 4.3线路编码

4.5 金属的热电子发射和接触电势 一. 功函数 二. 热电子发射 三. 接触电势 4.6 金属的交流电导率和光学性质 一. 交流电导率 二. 金属的介电系数 三. 金属的光学性质

一、基本原理 1.光的吸收和发射x

《仪器分析》课程教学讲义（PPT课件）第十四章 原子吸收分光光 第1节原子发射光谱分析基本原理

一、光的基本性质 二、介质对光的反射与折射 三、介质对光的吸收 四、介质对光的散射与色散 五、材料的光发射 六、激光与激光材料

利用Al-N-O选择性吸收层之间产生的干涉效应,改善吸收表面的光学性能(吸收率α和发射率ε).通过工艺实验确定了2种不同金属填充因子的双吸收层结构.与多层渐变吸收表面相比双吸收层结构吸收表面具有膜系结构简单、高温下性能稳定、发射率较低等优点.吸收表面的吸收率α为0.93~0.95,发射率ε(353K)为0.04~0.06