法拉弟发现了电磁感应现象 全面的揭示了电和磁的联系,为麦克斯韦的电磁场理论奠定了坚实的基础 电磁感应现象的发现,为人类生活的 电气化打下了坚实的基础

1．加深理解电路发生谐振的条件、特点，掌握电路品质因数（电路Q值）、通频带的物理意义及其测定方法；2．学习用实验方法绘制R、L、C串联电路不同Q值下的幅频特性曲线；3．熟练使用信号源、频率计和交流毫伏表

本章首先对实际液体在不同边界条件下的液流特征进行剖析，认清水头损失的物理概念。在此基础上，介绍水头损失变化规律及其计算方法

力法小结 一、了解力法的基本思路以及力法基本未知量、基 本体系(基本结构)、基本方程的概念。 、弄清力法的基本原理。深刻理解力法典型方程 的物理意义。 三、熟练掌握结构在荷载作用下的内力和位移计算 ;掌握结构在支座移动时的内力和位移计算以及力 法对称性的利用。 四、力法计算步骤:

一、热平衡 二、热平衡时非简并半导体载流子浓度的计算 三、本征半导体载流子浓度的计算 四、杂质半导体载流子浓度的计算 五、简并半导体载流子浓度的计算

一、力矩 刚体绕Oz轴旋转,力F 个M 作用在刚体上点P,且在转动 平面内,下为由点O到力的 作用点P的径矢

长度为 l、 吃水深度 h 的船以速度 v 航行,若不 考虑风的影响,那么航船受到的阻力 f除依赖船的诸 变量 l, h, v 以外, 还与水的参数—密度ρ,粘性系数 μ,以及重力加速度 g 有关. 下面用量纲分析法确定阻力与这些物理量之 间的关系

对于中规模、大规模和某些VLSI的IC，前面介绍的基本光刻工艺完全适用，然而 ，对于ULSI/VLSI IC 这些基本工艺已经明显力不能及。在亚微米工艺时代，某些光刻工艺在0.3µm以下明显显示出它的局限性。存在地问题主要包括：光学设备的物理局限；光刻胶分辨率的限制；晶园表面的反射现象和高低不平现象等

一,光的干涉 1 理解相干光的条件及获得相干光的方法. 2 掌握光程的概念以及光程差和相位差的关系，理解在什么情况下的反射光有相位跃变. 3 能分析杨氏双缝干涉条纹及薄膜等厚干涉条纹的位置

我们知道，地球本身就是一个巨大的磁铁。而地 球上的一切生物，都是在地磁场的影响下繁衍生 存。然而地磁场是极不稳定的，它除了受四季变 化的影响之外，还要受太阳黑子爆发时的巨大影 响。很多年前，科学家就已知道太阳的活动会影 响地球，每当磁爆发生时，太阳风就会携带着大 量的带电质子和高能粒子，并以每秒400 至800 公里的速度闯入太空、袭击地球。此时，地球磁 场就会发生变化并影响人类身体健康